真空鍍膜設備的正常工作條件

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

那么，真空鍍膜設備的正常工作條件有哪些？我們一起來看看吧：

1、環(huán)境溫度：10~30℃

2、相對濕度：不大于70%

3、冷卻水進水溫度：不高于25℃

4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?

5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；

6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7、設備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。

此外，真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。

真空鍍膜機鍍膜技術(shù)和濕式鍍膜技術(shù)

隨著科學技術(shù)的發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)成為了各行各業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量的手段，真空鍍膜所需費用較低經(jīng)濟效益顯著讓越來越多的企業(yè)躍躍欲試，我國生產(chǎn)的真空鍍膜機已經(jīng)達到了相當水平，可以鍍制的真空鍍膜材料也越來越多，但和國外的設備對比也存在著一點差距，對于真空技術(shù)的研發(fā)有待提高。

真空鍍膜技術(shù)的膜材選材廣泛，可以控制膜的厚度并鍍制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具備許多新的化學和物理性能。濕式鍍膜技術(shù)是過去的一種鍍膜方式，即化學鍍或者電鍍，是應用化學還原的原理沉積在材料上，這種方法會產(chǎn)生廢液污染環(huán)境，以往很多電鍍設備廠因為污染問題紛紛轉(zhuǎn)變鍍膜工藝。

真空鍍膜技術(shù)鍍制的薄膜，膜層不易受到污染，在真空環(huán)境中可以提高純度和致密性，不產(chǎn)生廢液不污染環(huán)境。真空鍍膜本身污染，但是實際鍍制中會用到有機涂料，所以也會產(chǎn)生污染，然而相比濕式電鍍技術(shù)，污染小很多，真空鍍膜技術(shù)生產(chǎn)具有很強的生命力，但也不是說真空鍍膜技術(shù)就可以完全取代傳統(tǒng)的濕式鍍膜技術(shù)了，在膜層的厚度，耐老化上濕式鍍膜法仍然占據(jù)優(yōu)勢，真空鍍膜鍍制的膜層比較薄。

另外，牢固的膜層是受工藝和附著力所影響，不管是真空鍍膜技術(shù)還是濕式鍍膜技術(shù)，如果材料表面沒有清潔干凈都會影響膜層和材料的結(jié)合。

真空鍍膜設備選購要點分析

真空鍍膜設備選購要點分析如下：

1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

3、夾具運轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應要求，轉(zhuǎn)動的速度范圍及轉(zhuǎn)動精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。

4、真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

5、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發(fā)（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質(zhì)及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等），真空測量可選擇數(shù)字式智能真空計及其的測量規(guī)管，及其它測量儀器，如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計等。

6、充氣方式可選用質(zhì)量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門，并可選擇多路充氣管路及相應流量參數(shù)。

7、根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應儀表測量。

8、根據(jù)設備使用特點，可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。

9、完善的報警系統(tǒng)，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。

真空鍍膜機磁流體密封組件的安裝

真空鍍膜機磁流體密封組件的安裝與使用:密封組件安裝與使用時應注意注意被裝的密封組件與軸的同軸度要求、磁流體的注入量應適當、安裝前既應對組件進行必要的真空清洗處理、密封組件泄漏時檢查：

1、注意被裝的密封組件與軸的同軸度要求，借以保證密封間隙具有較小的偏心量。

2、磁流體的注入量應適當，在保證各級密封間隙中具有足夠量的前提下，不可過多地注入磁流體，以防抽空時多余的磁流體進入真空室內(nèi)，污染真空室。

3、安裝前既應對組件進行必要的真空清洗處理，又應注意防止乙醇等清洗劑滴入磁流體密封組件內(nèi)，以免引起密封組件的失效。

4、如發(fā)現(xiàn)密封組件泄漏時應從如下幾點進行查找：a、磁流體是否失效；b、連接法蘭與組件內(nèi)靜密封圈是否受到損壞；c、極齒齒型是否與轉(zhuǎn)軸接觸產(chǎn)生干摩擦；d、轉(zhuǎn)軸與密封組件是否連接不當產(chǎn)生同軸度移位；e、磁鐵是否退磁等。