光氧除味設(shè)備想要達(dá)到理想的工作效率，在設(shè)計(jì)原理上不斷引進(jìn)高新技術(shù)，不斷的讓設(shè)備技術(shù)在進(jìn)步，光氧化催化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng)，使H2O2分解產(chǎn)生自由基的速率大大加快，促近有機(jī)物的氧化去除。

光氧凈化器利用特別制造的高臭氧UV紫外線光束照射廢氣，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在紫外線光束照射下，與臭氧進(jìn)行反應(yīng)生成低分子化合物，如CO2、H2O等。投資費(fèi)用低，適用范圍廣，凈化速率高，操作簡單，除臭效果好，設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定，占地小，運(yùn)行費(fèi)用低，隨用隨開，不會(huì)造成二次污染。對(duì)有機(jī)廢氣處理效果好。

UV光氧除味設(shè)備報(bào)價(jià)產(chǎn)品性能

1.無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o－95o之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。

2.設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

3.材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。