電子束鍍膜設(shè)備介紹

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電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種。與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場(chǎng)的配合可以精準(zhǔn)地實(shí)現(xiàn)利用高能電子轟擊坩堝內(nèi)靶材，使之融化進(jìn)而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度的薄膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)是由哪些部分組成的？

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設(shè)備組成：

設(shè)備由薄膜沉積室、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測(cè)及控制系統(tǒng)、安全保護(hù)系統(tǒng)組成。

作用：電子束蒸鍍常用來(lái)制備Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蝕和耐高溫氧化膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備簡(jiǎn)介

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售電子束，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備采用完全封閉的系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀更漂亮，使用更安全。6-10KW e型電子槍可選國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口，可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所、高校在片狀、半球狀、異形基底表面制備金屬/化合物（ITO等氧化物）/導(dǎo)電薄膜/光學(xué)薄膜等。顯像管中的電子槍對(duì)應(yīng)于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對(duì)應(yīng)于增速器中的高壓加速電極及加速腔。