真空腔體

一般真空腔體內(nèi)部是規(guī)則的長方體,用一面加熱進(jìn)行熱輻射的方式熱傳導(dǎo)不能合理涵蓋整個腔體的內(nèi)部空間,所以效果不是很理想,.經(jīng)過試驗(yàn)論證,采取在真空腔體內(nèi)正上方、正下方、左側(cè)面、右側(cè)面各安裝一套加熱板加熱的方法,采用面對面熱輻射方式對腔體內(nèi)部進(jìn)行加熱.

由于設(shè)備在真空狀態(tài)下采用了上,下,左,右四面四路加熱的方法,比單純一路加熱就要復(fù)雜多了,這也是溫度控制的難點(diǎn).因此采用PID來進(jìn)行溫度控制調(diào)節(jié),控溫?zé)崤荚O(shè)置在腔體內(nèi)部,這樣可以更好地控制真空腔體內(nèi)的溫度.

常見真空腔體技術(shù)性能

材質(zhì)：不銹鋼、鋁合金等

腔體適用溫度范圍：-190℃~ 1500℃(水冷)

密封方式：氟膠O型圈或金屬無氧銅圈

出廠檢測事項(xiàng)：

1、真空漏率檢測1.3*10-10mbar*l/s

2、水冷水壓檢測：8公斤24小時無泄漏檢測.

內(nèi)外表面處理：拉絲拋光處理、噴砂電解處理、酸洗處理、電解拋光處理和鏡面拋光處理等.

影響真空絕緣水平的主要因素

電極資料

真空開關(guān)作業(yè)在10-2Pa以上的高真空，因?yàn)榇丝虤怏w分子十分稀疏，氣體分子的碰撞游離對擊穿已經(jīng)不起效果，因而擊穿電壓表現(xiàn)出和電極資料有較強(qiáng)的相關(guān)性。

真空空隙的擊穿電壓跟著電極資料的不同而不同，研究者發(fā)現(xiàn)擊穿電壓和資料的硬度與機(jī)械強(qiáng)度有關(guān)。一般來說，硬度和機(jī)械強(qiáng)度較高的資料，往往有較高的絕緣強(qiáng)度。比如，鋼電極在淬火后硬度進(jìn)步，其擊穿電壓較淬火前可進(jìn)步80%。

此外，擊穿電壓還和陰極資料的物理常數(shù)如熔點(diǎn)、比熱和密度等正相關(guān)，即熔點(diǎn)較高的資料其擊穿電壓也較高。比照熱和密度而言亦然。這一問題的實(shí)質(zhì)是在相同熱能的效果下，資料發(fā)作熔化的概率越大，則擊穿電壓越低。

真空腔體制造技術(shù)

基板指的是一個大的法蘭適配器，可以把一個位置低的腔體或者鐘形罩連接到真空泵?；逋ǔＳ幸粋€位于中心位置的端口或者法蘭連接裝置，可連接到真空抽氣系統(tǒng)。

脫氣箱或者脫氣室通常是腔體結(jié)構(gòu)，一般帶有鉸鏈接口，可連接不需要高真空環(huán)境的其他裝置，如塑料樣品、血液、粘合劑、化學(xué)制品或其他液體的除氣設(shè)備。

輔助井用于連接抽氣系統(tǒng)和鐘形罩。

基地井整合了基板和真空密封頸，用焊接接頭取代一個真空密封件，可以同時實(shí)現(xiàn)基板和密封設(shè)備兩個部件的功能。

鐘形罩由圓柱形的主體和一個半球形或球形的端口組成。可選材料包括玻璃、金屬和塑料。標(biāo)準(zhǔn)鐘形罩的直徑是12英寸，14英寸，18英寸和24英寸。