電鍍需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽(yáng)極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)

合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽(yáng)極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤(rùn)濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過(guò)程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過(guò)程。因此，這是一個(gè)包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過(guò)程。

塑膠電鍍生產(chǎn)的特點(diǎn)決定任何管理者都會(huì)十分重視鍍液的管理。電鍍生產(chǎn)的重要物質(zhì)條件是電鍍液，設(shè)備可以簡(jiǎn)陋，從主要設(shè)備到輔助設(shè)備，都可以變通，能省的則可以省。但是唯獨(dú)電鍍液，是不能有問(wèn)題的，否則，無(wú)論多么先進(jìn)的電鍍生產(chǎn)線，即使是電腦監(jiān)控的全自動(dòng)生產(chǎn)線，鍍液一出問(wèn)題，就得停產(chǎn)排除鍍液故障后，才能正常生產(chǎn)。這種特點(diǎn)，在管理上會(huì)帶來(lái)另一個(gè)盲點(diǎn)，那就是只盯在鍍液的管理上，制定很多與鍍液有關(guān)的制度，特別是鍍液的加料和調(diào)整，都會(huì)有非常嚴(yán)格的制度。

電鍍生產(chǎn)線設(shè)備：電鍍廢水處理設(shè)備的價(jià)格一般取決于電鍍廢水處理設(shè)備所采用的工藝以及電鍍廢水處理設(shè)備的組成和配置，

電鍍廢水處理設(shè)備常用的組合工藝是采用化學(xué)法和物理法相結(jié)合的方法處理電鍍廢水，有的采用多種組合工藝處理電鍍廢水。根據(jù)不同的組合工藝，電鍍廢水處理設(shè)備的價(jià)格會(huì)有不同的浮動(dòng)幅度。

由于電鍍廢水來(lái)源不同，采用不同的處理方法，聯(lián)合工藝的價(jià)格區(qū)間略有不同。

如根據(jù)電鍍廢水的組成，可采用電解法、化學(xué)法 氣浮法、化學(xué)藥劑 沉淀法。電解法生產(chǎn)的含鉻廢水能耗高，能耗低，適合于含鐵廢水的處理。

電鍍工藝有銳邊變厚的現(xiàn)象。電鍍中的銳邊會(huì)引起凸起部分放電，形成邊角鍍層隆起。因此應(yīng)盡量采用圓角過(guò)渡，圓角半徑至少0.3 mm以上

真空電鍍廠在平板形塑件電鍍時(shí)操作比較困難，鍍件的中心部分鍍層薄，越靠邊際鍍層越厚，整個(gè)鍍層呈不均勻狀況，應(yīng)將平面形改為略帶圓弧面或用桔皮紋制成亞光面。電鍍的外表積越大，中心部位與邊際的光澤差別也越大，略帶拋物面能改善鍍面光澤的均勻性。

塑件上盡量削減凹槽和杰出部位。因?yàn)樵陔婂儠r(shí)深凹部位易露塑，而杰出部位易鍍焦。凹槽深度不宜超越槽寬的1/3，底部應(yīng)呈圓弧。有格柵時(shí)，孔寬應(yīng)等于梁寬，并小于厚度的1/2。