感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)的結(jié)構(gòu)一

預(yù)真空室預(yù)真空室的作用是確?？涛g腔內(nèi)維持在設(shè)定的真空度，不受外界環(huán)境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險(xiǎn)性氣體與潔凈廠房隔離開(kāi)來(lái)。它由蓋板、機(jī)械手、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、隔離門(mén)等組成。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容，希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的知識(shí)，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)的結(jié)構(gòu)二

創(chuàng)世威納——專業(yè)感應(yīng)耦合等離子體刻蝕供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

刻蝕腔體刻蝕腔體是ICP 刻蝕設(shè)備的核心結(jié)構(gòu)，它對(duì)刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響?？涛g腔的主要組成有：上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單元、下電極系統(tǒng)、控溫系統(tǒng)等組成。

以上就是關(guān)于感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)的結(jié)構(gòu)四

真空系統(tǒng)真空系統(tǒng)有兩套，分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體。預(yù)真空室由機(jī)械泵單獨(dú)抽真空，只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時(shí)，才能打開(kāi)隔離門(mén)，進(jìn)行傳送片。刻蝕腔體的真空由機(jī)械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空。

想了解更多關(guān)于感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的相關(guān)資訊，請(qǐng)持續(xù)關(guān)注本公司。

等離子刻蝕工藝

高密度等離子體源在刻蝕工藝上具有許多優(yōu)勢(shì)，例如，可以更準(zhǔn)確地控制工作尺寸，刻蝕速率更高，更好的材料選擇性。高密度等離子體源可以在低壓下工作，從而減弱鞘層振蕩現(xiàn)象。使用高密度等離子體源刻蝕晶片時(shí)，為了使能量和離子通量彼此獨(dú)立，需要采用獨(dú)立射頻源對(duì)晶圓施加偏壓。因?yàn)榈湫偷碾x子能量在幾個(gè)電子伏特量級(jí)，在離子進(jìn)入負(fù)鞘層后，其能量經(jīng)加速將達(dá)到上百電子伏特，并具有高度指向性，從而賦予離子刻蝕的各向異性。

如需了解更多感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的相關(guān)內(nèi)容，歡迎撥打圖片上的熱線電話！