公司奉行專業(yè)化 管理、規(guī)模化經(jīng)營的企業(yè)理念，以認真、主動、嚴格的做事風格向用戶提 供高品質(zhì)、高性價比的金屬蝕刻片產(chǎn)品。 目前主要產(chǎn)品種類：精密蝕刻；蝕刻加工；金屬蝕刻；腐蝕金屬碼盤； 腐蝕加工 IC 導線架；不銹鋼蝕刻濾網(wǎng)；蝕刻加工喇叭網(wǎng)；專業(yè)提供蝕刻標牌、不銹鋼標牌工藝要求：1、不銹鋼板須刨坑折彎焊接（不銹鋼板須先刨坑后折彎，以保證邊緣挺拔度）。腐蝕標牌；蝕刻蒸鍍 罩；蝕刻透光片；蝕刻工藝品；腐蝕透光片；腐蝕防塵網(wǎng)；蝕刻掩膜板；腐蝕 手機遮光片；蝕刻五金；蝕刻電阻片；腐蝕金屬手機配件；不銹鋼腐蝕加工； 腐蝕不銹鋼；無連接點品牌 LOGO；無連接點精密墊片；手機用金屬元件；防盜 產(chǎn)品配件；打印機復印機配件；碼達配件；編碼器專用金屬碼盤；光電產(chǎn)品用 透光片；金屬工藝品；保健類產(chǎn)品金屬件；刮腳片；刨刀片等等精密零部件，

對于優(yōu)良側(cè)面效果的制造方式﹐外界均有不同的理論、 設(shè)計方式和設(shè)備結(jié)構(gòu)的研究, 而這些理論卻往往是人相徑庭的。FY6000型感光油墨使用流程和工藝參數(shù)如下：噴涂或者200--300目絲網(wǎng)滿版刮印在金屬板上↓烘烤90--100攝氏度，時間8--15分鐘↓紫外線曝光。 但是, 有一條基本的原則已被公認并經(jīng)化學機理分析 證實﹐就是盡速讓金屬表面不斷地接觸新鮮的蝕刻液。 在氨性蝕刻中﹐假定所有參數(shù)不變 ﹐那么蝕刻的速率將主要由蝕刻液中的氨（NH3）來決定。因此, 使用新鮮溶液與蝕刻表面 相互作用﹐其主要目的有兩個﹕沖掉剛產(chǎn)生的銅離子及不斷為進行反應供應所需要的氨 （NH3）。

在印制電路工業(yè)的傳統(tǒng)知識里﹐特別是印制電路原料的供貨商們皆認同﹐并得經(jīng)驗證 實﹐氨性蝕刻液中的一價銅離子含量越低﹐反應速度就越快。烘箱的溫度設(shè)置在88度，讓它自動控制，5分鐘后拿出來，充分攪拌，沒有氣泡，像這樣了才能使用。 事實上﹐許多的氨性蝕刻液 產(chǎn)品都含有價銅離子的特殊配位基（一些復雜的溶劑）﹐其作用是降低一價銅離子（產(chǎn)品具 有高反應能力的技術(shù)秘訣）﹐可見一價銅離子的影響是不小的。 將一價銅由 5000ppm 降至 50ppm, 蝕刻速率即提高一倍以上。 由于在蝕刻反應的過程中會生成大量的一價銅離子, 而一價銅離子又總是與氨的絡合 基緊緊的結(jié)合在一起﹐所以要保持其含量近于零是十分困難的。

此方法所使用的溶液為二價銅, 不是氨-銅蝕刻, 它將有可能被用在印制電路工業(yè)中。 在 PCH 工業(yè)中, 蝕刻銅箔的典型厚度為 5 到 10 密耳(mils), 有些情況 下厚度卻相當大。標識設(shè)計良好與建筑室內(nèi)裝飾設(shè)計時期介入，以便同時考慮標識與建筑風格的協(xié)調(diào)，以及標識安裝所需條件。它對蝕刻參數(shù)的要求經(jīng)常比 PCB 工業(yè)更為苛刻。 有一項來自 PCM 工業(yè)系統(tǒng)但尚未正式發(fā)表的研究成果﹐相信其結(jié)果將會令人耳目一新。 由于有雄厚的項目支持﹐因此研究人員有能力從長遠意議上對蝕刻裝置的設(shè)計思想進 行改變﹐同時研究這些改變所產(chǎn)生的效果。 比如說﹐與錐形噴嘴相比﹐采用扇形噴嘴的設(shè) 計效果更佳﹐而且噴淋集流腔 （即噴嘴擰進去的那一段管） 也有一個安裝角度﹐對進入蝕刻 艙中的工件呈 30 度噴射﹐若不進行這樣的改變, 集流腔上噴嘴的安裝方式將會導致每個相 領(lǐng)噴嘴的噴射角度都不一致。