真空鍍膜加工清除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工 作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求。工作前，要確保電弧蒸發(fā)源發(fā)源安裝正確，絕緣良好，引弧針控制靈活,程合適，恰好能觸及陰極表面?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部 件認真清洗外，還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須 采取擋油措施。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，

電鍍按技術(shù)分類可分為蒸鍍、濺鍍、槍色等，水電鍍因技術(shù)較簡略，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，然后被廣泛使用。電鍍按技術(shù)分類可分為蒸鍍、濺鍍、槍色等，水電鍍因技術(shù)較簡略，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，然后被廣泛使用。但水電鍍有個缺陷，只能鍍ABS料和ABS PC料(此料鍍的效果也不是很理想).而ABS料耐溫只需80℃,這使得它的使用規(guī)劃被約束了，而真空電鍍可達200℃分配，這對運用在高溫的部件就可以進行電鍍處理了.像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)運用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫，通常要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在畢竟噴一層UV油，這么使得商品外表既有光澤、有能耐高溫、同時又加強其附著力。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。這種鍍膜玻璃的色澤單調(diào)、透光率大，大面積玻璃膜層不均勻，不適宜作幕墻玻璃。

真空鍍膜的方法很多，計有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。同時，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。