手機(jī)納米液離子鍍膜的工作原理

離子鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空多弧離子鍍膜機(jī)、真空中頻磁控濺射鍍膜機(jī)、多功能中頻磁控濺射多弧復(fù)合離子鍍膜機(jī)、真空光學(xué)(電子束蒸發(fā))鍍膜機(jī)等系列真空鍍膜設(shè)備，主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

離子濺射鍍膜，多半是在反應(yīng)氣體存在下進(jìn)行的，化合物沉積膜的穩(wěn)定性和光學(xué)常數(shù)，依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應(yīng)氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。反應(yīng)濺射形成的氧化物是屬于有吸收而折射率不是很高的鍍膜材料。

真空鍍膜檢漏有哪3個(gè)過(guò)程?

真空鍍膜檢漏有哪3個(gè)過(guò)程？ (1)充壓過(guò)程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內(nèi)存放一定時(shí)間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢件的內(nèi)部，并且將隨浸泡時(shí)間的增加和充氣壓力的，被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力也必然會(huì)逐漸升高。(2)凈化過(guò)程是采用干燥氮?dú)饬骰蚋稍锟諝饬髟诔鋲喝萜魍獠炕蛟谄鋬?nèi)部噴吹被檢件。如不具備氣源時(shí)也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。在凈化過(guò)程中，因?yàn)橛幸徊糠謿怏w必然會(huì)從被檢件內(nèi)部經(jīng)漏孔流失，從而導(dǎo)致被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時(shí)間越長(zhǎng)，示漏氣體的分壓降就越大。(3)檢漏過(guò)程則是將凈化后的被檢件放入真空室內(nèi)，將檢漏儀與真空室相連接后進(jìn)行檢漏。抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過(guò)漏孔從被檢件內(nèi)部流出，然后再經(jīng)過(guò)真空室進(jìn)入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

什么是綠色鍍膜?當(dāng)下各國(guó)對(duì)環(huán)保事業(yè)的日益看重

什么是綠色鍍膜？ 當(dāng)下各國(guó)對(duì)環(huán)保事業(yè)的日益看重，傳統(tǒng)高消耗、重污染的電鍍行業(yè)逐漸被推上風(fēng)口浪尖。由于電鍍行業(yè)的基礎(chǔ)性，注定著它無(wú)法直接被取締，所以如何對(duì)電鍍技術(shù)進(jìn)行升級(jí)換代，成為眾多研究人員需要思考的問(wèn)題。由蘭州交通大學(xué)科技人員首先提出的綠色鍍膜技術(shù)是表面工程領(lǐng)域的新技術(shù)，可以替代或者部分替代傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍技術(shù)，能夠解決可持續(xù)發(fā)展與環(huán)境污染的矛盾。 過(guò)去的鍍膜多采用電鍍法和化學(xué)鍍法，存在著厚度難以控制、膜層均勻性差、附著力差等問(wèn)題，三廢污染特別嚴(yán)重，在人們環(huán)保意識(shí)逐步加強(qiáng)的今天，其發(fā)展已受到了多方面的制約。綠色鍍膜技術(shù)工藝過(guò)程簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境友好，無(wú)污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結(jié)合力強(qiáng)。與傳統(tǒng)的電鍍法相比，真空鍍膜技術(shù)具有很多的優(yōu)點(diǎn)，如裝飾效果好，金屬質(zhì)感強(qiáng)，易于操作等。特別在非金屬物件的應(yīng)用上，有著傳統(tǒng)電鍍無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì)。