真空鍍膜基礎(chǔ)知識(shí)

鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴(kuò)散法，電鍍法，涂布法，液相生長(zhǎng)法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。

真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。

真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我們通常所說(shuō)的漏氣;.

2、真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了:

3、真空室內(nèi)太臟放氣;

4、真空室內(nèi)有漏水;

5、真空管道有漏氣;.

6、或者是以上幾種可能都有。

出現(xiàn)問(wèn)題首先是要判斷，是不是拆卸過(guò)東西，是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因，然后再去根據(jù)判斷找問(wèn)題，可能會(huì)收到事半功倍的效果。

養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習(xí)慣

相比以前我們廠的設(shè)備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認(rèn)為，設(shè)備只要正常運(yùn)轉(zhuǎn)就可以了，搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認(rèn)為的，一個(gè)人連表面工作都作不來(lái)，那真的還有內(nèi)在、實(shí)在的工作嗎?當(dāng)然設(shè)備和設(shè)備周圍的灰塵、油污對(duì)設(shè)備的本身的影響也是相當(dāng)之大的。灰塵能產(chǎn)生靜電，損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂，造成一些意想不到的問(wèn)題出現(xiàn)。特別我們使

用的真空設(shè)備，還有它本身的特殊性。真空設(shè)備講究的是-一個(gè)真空清潔度，真空鍍膜廠家，真空清潔度越差，放氣性就越大。這樣使設(shè)備抽到較高的真空度所需的時(shí)間就越長(zhǎng)。

或者根本就無(wú)法抽到。這樣一來(lái)就減少我們的產(chǎn)量，二來(lái)影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。

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