真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。

PVD真空鍍膜對(duì)人的危害是很小的。

1、電磁輻射很小。

2、真空泵排氣可以要直接到室外。

3、鍍膜結(jié)束后，打開真空室時(shí)，真空電鍍，可能會(huì)有灰塵，真空電鍍公司，注意別吸到呼吸道中。

4、不要長時(shí)間觀察等離子體束，可能對(duì)人眼睛有傷害。

5、如果需要加熱，注意別燙到。

6、注意工藝氣體不能泄露。

總體來說，真空濺鍍這種鍍膜方式危害很小。

真空電鍍工藝的流程

1.加熱蒸發(fā)過程

包括固相或液相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程，真空電鍍價(jià)格，每種物質(zhì)在不同的溫度下有不同的飽和蒸氣壓。

2.氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間的運(yùn)輸過程

此過程中氣化原子或分子與殘余氣體分子發(fā)生碰撞，其碰撞與蒸發(fā)原子或分子的平均自由程以及蒸發(fā)源到基板距離有關(guān)。

3. 蒸發(fā)原子或分子在基片表面的沉積過程

即蒸汽的凝聚成核，核生長形成連續(xù)膜，為氣相轉(zhuǎn)變?yōu)楣滔嗟倪^程。

上述過程必須在空氣稀薄的真空環(huán)境中（10-2～1pa）進(jìn)行，否則蒸發(fā)粒子將于空氣分子碰撞，使膜污染甚至形成氧化物，或者蒸發(fā)源氧化燒毀等。

真空電鍍工藝流程復(fù)雜，非常依賴人工操作。工件（靶材）需要噴涂、裝卸、再噴涂，真空電鍍哪家好，并且也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量，所以人力成本很高。真空環(huán)境下輻射小、環(huán)境污染小，真空電鍍現(xiàn)為各行業(yè)中廣泛應(yīng)用。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的原理和區(qū)別

1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

2、光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。

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