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曝光顯影是蝕刻工藝中非常重要的部分,它是圖案準確度的決定性因素,標牌曝光顯影服務,因此曝光顯影管控非常重要,之前鑫海森有編輯過“曝光顯影在蝕刻加工中的作用”
首先是預處理,蝕刻材料要處理干凈,標牌曝光顯影設計,絲印油墨時要保證油墨厚度適中,標牌曝光顯影報價,一般在0.12-0.14mm,當然看每個工廠的實際情況與工藝。
接下來是烘烤油墨,要控制溫度和烘烤速度,一般來說烘烤溫度控制在90℃±5℃。
4:由顯影裝置30對曝光后的基板S進行顯影。
1:對基板S的主體進行曝光;
2:由基板輸送機構50將基板S輸送至顯影裝置30 ;
3:由邊緣曝光裝置20對基板S的邊緣進行曝光;
4:由顯影裝置30對曝光后的基板S進行顯影。
其中,在步驟I中可利用主體曝光機10對基板S的主體進行曝光。
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顯影主要作用是用于加強陰影部分的影紋,減低高影調部分的密度。曝光時,陰影部分須比正常提高一個區(qū)如果膠片容易發(fā)灰,在溶液B中加入少量的10%S化鉀溶液。底片上的高密度部分的厚度,主要依靠A溶液顯影時間的控制,底片進入溶液B以后,高密度部分的顯影作用已經停止了,但低密度的部分仍然繼續(xù)進行,溶液B可以調制的比較強,但是B溶液越強,顆粒就會越粗,所以這種沖洗法需要事前進行比較大量的試驗。
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