曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉(zhuǎn)移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機(jī)器定位或者人工定位的方式去將菲林對(duì)準(zhǔn)，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，固定后進(jìn)行曝光。3D玻璃顯影曝光技術(shù)在HW mateRs用到了此技術(shù)，曝光時(shí)菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對(duì)于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應(yīng)，然后通過顯影機(jī)，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，

顯影工藝是怎樣？

前工站加工的玻璃進(jìn)入顯影設(shè)備，手機(jī)殼LOGO曝光顯影工藝，對(duì)需要去除的油墨進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，手機(jī)殼LOGO曝光顯影加工，進(jìn)行剝離，然后進(jìn)行表面清洗，形成高精度的油墨3D蓋板。顯影操作需控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等參數(shù)。

曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，手機(jī)殼LOGO曝光顯影拋光，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。


曝光顯影工藝流程是微電子芯片制造中的一項(xiàng)關(guān)鍵制程，手機(jī)殼LOGO曝光顯影，蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，并在其表面上涂上一層光刻膠。布圖設(shè)計(jì)：根據(jù)芯片設(shè)計(jì)，制定合適的曝光和顯影條件，并在計(jì)算機(jī)上生成掩模圖形來輔助芯片制造。曝光：使用紫外線曝光機(jī)將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉(zhuǎn)到高轉(zhuǎn)速


利成感光五金廠-手機(jī)殼LOGO曝光顯影工藝由東莞市清溪利成感光五金廠提供。東莞市清溪利成感光五金廠是廣東 東莞 ,樹脂工藝品的見證者，多年來，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針，滿足客戶需求。在利成感光領(lǐng)導(dǎo)攜全體員工熱情歡迎各界人士垂詢洽談，共創(chuàng)利成感光更加美好的未來。