相對于傳統(tǒng)的電解鍍，江蘇真空電鍍，熱浸鍍來說，真空鍍膜的主要特色是：

（1）成膜溫度低。鋼鐵職業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度通常是400℃～500℃，化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易導致被鍍件的變形、蛻變，而真空鍍膜的溫度低，能夠降到常溫，避免了慣例鍍膜技能的弊端。

（2）蒸發(fā)源挑選自由度大?？商暨x的鍍膜資料多而不受資料熔點限制，除了熱鍍鋅中常見的鋅、鋁、錫外，簡直能夠蒸鍍一切的金屬資料，還可鍍種類很多的金屬氮化膜，真空電鍍工廠，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

（3）不運用有害氣體、液體，對環(huán)境無晦氣影響。在當時越來越重視環(huán)保的大趨勢下，這點極為可貴。

（4）帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能取得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等疑問。

（5）技能靈敏，改動種類便利?？慑儐蚊?、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于操控。經(jīng)過斷定鍍膜時間，能夠準確操控鍍層厚度，然后避免了熱鍍鋅中常見的厚度不易操控和呈現(xiàn)鋅浪等疑問。

總之，帶鋼真空鍍膜是一個集冶金、真空、化學、物理等學科于一體的高新技能，其商品具有高附加值，真空電鍍表面處理，既有帶鋼的強度和便宜的特色，又有鍍膜后的多功能，多種類，高質(zhì)量的特點，是非常具有潛力的新式帶鋼資料的研制方向！

真空電鍍的質(zhì)量很大程度上取決于設(shè)備質(zhì)量和環(huán)境清潔度（無塵度）。

1、設(shè)備簡介

大型設(shè)備有自動流水線體（含UV流水線）、真空鍍膜機、輔助設(shè)備有產(chǎn)品治具、工裝夾具、有的廠還配有機器人。

2、環(huán)境要求

1、噴漆房外室：作業(yè)環(huán)境至少在10萬級以下

真空流水線體

噴漆房內(nèi)

靜電除塵段，作業(yè)環(huán)境至少在1萬級以下。

真空鍍膜機

一般為門式裝置，打開門可裝、卸（半）產(chǎn)品，關(guān)上門即可設(shè)定參數(shù)、真空作業(yè)，此過程工藝環(huán)境必須在10萬級一下操作

我們以一個塑料件為例：在工件上先噴一層底漆，再做電鍍．由于工件是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會形成一個光滑平整的表面.

真空鍍膜和光學鍍膜的原理和區(qū)別

1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，真空電鍍加工價格，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應(yīng)用。光學薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。

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