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的功能在于使未受光作用的鹵素銀不起顯影作用。因?yàn)?span style="text-indent:2em;">化鉀在溶液中電離出離子(Br-)被吸在感光片有銀離子(Ag )的地方。我們知道顯影中心是金屬銀所組成,因此,它吸附Br-的能力比顯影中心的小得多,這樣感光片上沒有顯影中心的地方被BI-所覆蓋,而形成負(fù)電荷屏障,排斥顯影離子,從而使該處的Ag 不能被還原為Ag。但化鉀的用量多,則離子的濃度大,顯影中心周圍的化銀的表面,會(huì)因吸附過(guò)量的離子而顯著的改變顯影速度。
目前,普遍采用的定影劑是硫酸鈉,增城弧度面曝光顯影,它的定影速度和定影容量都很好,而且價(jià)格便宜。氯化銀、化銀、碘化銀都能溶解在硫酸鈉溶液中,只是碘化銀的溶解速度較慢,定影時(shí)間需長(zhǎng)些。硫酸鈉能微量地溶解銀,不過(guò)在普通的定影液中,所溶解下來(lái)的銀是微不足道的。
硫酸鈉(Na,S,0,.5H,0)俗稱大蘇打或海波,為無(wú)色透明的單斜晶體,弧度面曝光顯影生產(chǎn)廠家,易溶于水,水溶液呈弱堿性,遇強(qiáng)酸會(huì)析出硫和氧化硫。硫酸鈉應(yīng)密封于燥保存配成水溶液后,不宜放置過(guò)久,以免分解出硫而失效。
“曝光顯影工藝就是我們常說(shuō)的黃光工藝,這種曝光工藝其實(shí)是很成熟的,它應(yīng)用在PCB行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、甚至顯示面板行業(yè),但這種工藝應(yīng)用到現(xiàn)在的3D玻璃蓋板工藝的時(shí)間并不長(zhǎng)。這種工藝的優(yōu)點(diǎn)是曝光的精度高,它的良率高?!?/p>
雖然如此,但是PCB曝光工藝和半導(dǎo)體工藝曝光工藝條件不一樣,PCB通常是貼合式曝光,弧度面曝光顯影加工,曝光是沒有距離的,但現(xiàn)在的蓋板是3D曲面蓋板,它的曝光,通常來(lái)說(shuō)MASK它跟產(chǎn)品有一定的距離,這個(gè)距離會(huì)造成一定的偏差,所以它的工藝是有難點(diǎn)的。
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