真空鍍膜系統(tǒng)

離子蒸發(fā)及濺射源　

多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強(qiáng)度，可調(diào)整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。

真空鍍膜系統(tǒng)

真空鍍膜工藝中的真空系統(tǒng)也并非單一的真空泵，內(nèi)蒙古自治真空鍍膜，而是為了獲得鍍膜工藝中所必須的真空度，就需要將不同的泵進(jìn)行組合使用。一般而言，該組合方式為機(jī)械泵、油擴(kuò)散泵、無油泵組（分子泵、冷凝泵、鈦擴(kuò)散吸附泵）、管道閥門冷阱、真空室、冷卻系統(tǒng)和真空測量。真空泵油霧過濾器主要用在旋片式機(jī)械泵上面，降低排氣對空氣產(chǎn)生的污染，在機(jī)械泵前也有必要安裝空濾，防止空氣中的雜質(zhì)與粉塵進(jìn)入泵內(nèi)污染泵油或者造成零部件的磨損。

常見的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO，二氧化硅SiO2，二氧化鈦TiO2，二氧化鋯ZrO2，二氧化鉿HfO2，一氧化鈦TiO，五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5，氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，真空鍍膜生產(chǎn)廠家，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，真空鍍膜報價，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，真空鍍膜廠家，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni，高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。　

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