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PCB曝光工藝和半導體工藝曝光工藝條件不一樣，PCB通常是貼合式曝光，曝光是沒有距離的，但現(xiàn)在的蓋板是3D曲面蓋板，它的曝光，通常來說MASK它跟產(chǎn)品有一定的距離，這個距離會造成一定的偏差，所以它的工藝是有難點的。

內層干膜包括內層貼膜、曝光顯影、內層蝕刻等多道工序。內層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說的干膜。這種膜遇光會固化，在板子上形成一道保護膜。曝光顯影是將貼好膜的板進行曝光，透光的部分被固化，沒透光的部分還是干膜。然后經(jīng)過顯影，褪掉沒固化的干膜，將貼有固化保護膜的板進行蝕刻。再經(jīng)過退膜處理，這時內層的線路圖形就被轉移到板子上了。

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蝕刻加工中曝光顯影需要注意哪些問題

曝光顯影是蝕刻工藝中非常重要的部分，它是圖案準確度的決定性因素，因此曝光顯影管控非常重要。

首先是預處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當然看每個工廠的實際情況與工藝。

接下來是烘烤油墨，要控制溫度和烘烤速度，一般來說烘烤溫度控制在90℃±5℃。

第三步就是曝光中要注意菲林外觀的準確性，l圖案是否清晰嗎，對外是否準確，然后進行曝光。

曝光后要檢測曝光后的圖形質量，若有遺漏需要進行人工補油補點。補油后需要進行第二次烘烤。

之后就進行顯影，確定圖形的清洗度，鋁材6061曝光顯影加工，顯影過程中主要是控制gao水的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。

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