ＰＶＤ鍍膜技術(shù)的特點：

1 ．膜層與物件表面的結(jié)合力強，真空電鍍加工廠家，保色更加持久，耐磨性強

2 ．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的物件

3 ．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率g

４.可鍍膜層顏色種類廣泛

５.穩(wěn)定性高、環(huán)保

ＰＶＤ鍍膜的整個工藝流程：ＱＡ品檢—上掛—清洗—烘烤—電鍍—出爐—下架—全檢

我司真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上，真空電鍍哪里近，就會清潔工作室一次，需用用酒精或（NaOH）飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，真空電鍍，目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，再用清水清洗真空室和用布沾q油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。當(dāng)粗抽泵連續(xù)工作一個月，需更換新油。

方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量，連續(xù)使用半年以上，換油時應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。

不銹鋼真空電鍍需要掛在設(shè)定好的掛具上入爐電鍍。有些沒有掛點的加工件容易出現(xiàn)掛具影子現(xiàn)象。所以就要在加工時用導(dǎo)電的銅線纏繞在產(chǎn)品的一端，使其固定產(chǎn)品掛在掛具上。銅線的粗細(xì)和銅線纏繞的方法都很重要，稍有不當(dāng)就會造成產(chǎn)品真空電鍍時出現(xiàn)掛具影子現(xiàn)象。

影響不銹鋼真空電鍍膜層產(chǎn)生掛具影子的主要原因：掛具的設(shè)計和掛具的導(dǎo)電性不良。

1. 掛具設(shè)計不合理，電力線分布不均勻

2. 掛具上的掛鉤腳子松落，導(dǎo)電性差

3. 掛具掛鉤有絕緣層，未剝離干凈

4. 掛具閑置時間長，掛具導(dǎo)電的接觸面有雜質(zhì)，未除盡

5. 掛具各接觸點的接觸電阻大，使產(chǎn)品表面上的真實電流密度太小，而使低電流密度區(qū)鍍層不亮

6. 掛具掛鉤上的鍍層很厚，沒有及時維護，真空電鍍表面處理，導(dǎo)電性差

7. 工人在操作過程中對產(chǎn)品上掛方法操作不當(dāng)

8. 不銹鋼真空電鍍膜層結(jié)合力不好

相對蒸發(fā)電鍍，磁控濺射有如下的特點：

1．膜厚可控性和重復(fù)性好

2.薄膜與基片的附著力強

3.可以制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金，化合物等

4.膜層純度高，致密

5.沉積速率低，設(shè)備也更復(fù)雜

磁控濺射鍍膜按照電源類型可分為：直流濺射、中頻濺射、射頻濺射。

反應(yīng)濺射的應(yīng)用：

1.現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展需要應(yīng)用到越來越多的化合物薄膜。

2.如光學(xué)工業(yè)中使用的TiO2、SiO2和TaO5等硬質(zhì)膜。

3．電子工業(yè)中使用的ITO透明導(dǎo)電膜，SiO2、Si2N4和Al2O3等鈍化膜、隔離膜、絕緣膜。

4.建筑玻璃上使用的ZNO、SnO2、TiO2、SiO2等介質(zhì)膜

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