曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時(shí)曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細(xì)，盡管對193i負(fù)膠的研發(fā)已經(jīng)傾注了很大的努力，黃埔圓弧面曝光顯影，但是其性能仍然與正膠有比較大的差距，所以提出負(fù)顯影（Negative Tone Develop，NTD）。用負(fù)顯影工藝可以實(shí)現(xiàn)較窄的溝槽，負(fù)顯影工藝已經(jīng)被廣泛用于20納米及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)中


曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉(zhuǎn)移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機(jī)器定位或者人工定位的方式去將菲林對準(zhǔn)，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，圓弧面曝光顯影設(shè)計(jì)，固定后進(jìn)行曝光。3D玻璃顯影曝光技術(shù)在HW mateRs用到了此技術(shù)，圓弧面曝光顯影拋光，曝光時(shí)菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應(yīng)，然后通過顯影機(jī)，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，


顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。從而形成可見的圖片。而在數(shù)字?jǐn)z影中，圓弧面曝光顯影廠家，曝光則是相機(jī)中的數(shù)字傳感器接收到光線所對應(yīng)的信息，并記錄下來，再通過數(shù)字信號處理，將其轉(zhuǎn)化為圖片的過程。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉(zhuǎn)到高轉(zhuǎn)速


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