在曝光顯影工藝中，只有對以上各種公差配合完全掌握，才能簡單可靠的做出合格產品。

曝光顯影技術優(yōu)勢

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉印技術單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉印技術，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產能優(yōu)勢明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，鋼材202曝光顯影加工價格，提高制程整體良率

顯影劑必須具備的條件

顯影過程是一個氧化還原過程。顯影劑是顯影液中的主要成分，它的作用是將已曝光的鹵化銀還原成銀。所以顯影劑是一種還原劑，而鹵化銀是氧化劑。從氧化還原角度來看，似乎具有還原能力的物質都可作為顯影劑，但事實上并非如此，真正能能夠作為顯影劑的物質并不多，因為還必須受某些其他條件的制約。能作為顯影劑的物質必須具有適當的還原能力（還原速度適中） ，有優(yōu)良的選擇還原性，即能使已曝光的鹵化銀迅速地還原，鋼材202曝光顯影加工，而對未曝光的物質保持不變。

曝光顯影整體方案的優(yōu)勢解決了3D曲面玻璃，包含四曲面印刷難題；圖形轉印技術單層多層套印精度高；霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性；采用圖形轉印技術，良率較高；4-10寸3D曲面蓋板制程產能優(yōu)勢明顯等等。

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