高純供氣系統(tǒng)

實(shí)驗(yàn)室一些儀器或設(shè)備的工作都需要各種各樣的氣體供應(yīng)，通常使用氣體的種類有高純氧氣、氮?dú)? 氣、氫氣、氦氣; 、、二氧化碳、，還有混合氣體等甚至還有些設(shè)備還會(huì)用到有毒有害氣體。有些氣體用于儀器設(shè)備的驅(qū)動(dòng)控制，如壓縮空氣。實(shí)驗(yàn)室供氣的方式有兩種，一種是傳統(tǒng)的獨(dú)立鋼瓶分散供氣模式，這種供氣模式為每臺(tái)儀器設(shè)備單獨(dú)配置氣體鋼瓶，分別滿足每臺(tái)儀器設(shè)備的使用。另一種模式為集中供氣模式，該方式以儲(chǔ)氣罐、杜瓦瓶、氣體發(fā)生器等作為氣源，配置氣體發(fā)生系統(tǒng)或自動(dòng)切換或手動(dòng)切換等系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)氣體的不間斷供應(yīng)，通過(guò)耐壓不銹鋼管道將氣體輸送到用氣端，每個(gè)端口的壓力和流量可以按照儀器的要求進(jìn)行單獨(dú)控制，滿足各種儀器設(shè)備的使用要求。

大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大，采用1的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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高純供氣系統(tǒng)

保證氣體純度。通過(guò)大型的儲(chǔ)罐( 液壓) 和輸送管道將載氣輸送給儀器，高純供氣廠家，在儲(chǔ)罐出口安裝有單向閥，可避免更換儲(chǔ)罐時(shí)空氣或水分混入，另外，還可在高壓段之后安裝有泄壓開關(guān)球閥，將多余的空氣或水分排放，從而保證氣體的純度。

安全性提高。一般瓶裝氣體的充氣壓力大于或等于 14MPa/cm2，集中供氣可根據(jù)需要降低系統(tǒng)壓力，而且遠(yuǎn)離實(shí)驗(yàn)區(qū)域，提高了使用的安全性。另外，集中供氣可將空氣壓縮機(jī)安放在供氣室內(nèi)，減少壓縮機(jī)產(chǎn)生電火花帶來(lái)的安全隱患，并可避免噪音對(duì)實(shí)驗(yàn)室的干擾。

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