真空鍍膜系統(tǒng)

離子蒸發(fā)及濺射源　

多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強度，可調(diào)整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。

薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，真空鍍膜廠家，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

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真空鍍膜機原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊及的售后服務(wù)隊伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。

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