超純水設(shè)備技術(shù)應(yīng)用出水符合電鍍行業(yè)用水需要

超純水設(shè)備技術(shù)應(yīng)用 出水符合電鍍行業(yè)用水需要電鍍的本質(zhì)是利用電解原理，半導(dǎo)體純水設(shè)備安裝，讓金屬或其他材料的產(chǎn)品表面附有金屬膜，使產(chǎn)品具有、耐腐蝕、耐磨、美觀等功能。因此電鍍行業(yè)對(duì)水質(zhì)要求更為嚴(yán)格，稍有疏忽，后果就是影響產(chǎn)品美觀，降低電鍍工藝性能，因此PCB電鍍涂裝工業(yè)經(jīng)常使用超純水設(shè)備，以滿足清潔用水的需要。　　傳統(tǒng)的超純水制取工藝是采用陰陽(yáng)樹脂交換設(shè)備，天津半導(dǎo)體純水設(shè)備，其缺點(diǎn)是樹脂使用一段時(shí)間后要經(jīng)常再生。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟，采用反滲透工藝，或在反滲透后通過(guò)EDI和拋光混床工藝，以制得超純水，半導(dǎo)體純水設(shè)備價(jià)格，其出水電導(dǎo)率可達(dá)18.2MΩ，符合電鍍行業(yè)的用水需要。

光學(xué)玻璃加工中為何需要超純水設(shè)備？

關(guān)于光學(xué)玻璃應(yīng)用中的超純水制備，超純水設(shè)備采用反滲透結(jié)合EDI裝置相結(jié)合的工藝來(lái)制備電阻率達(dá)到18 MΩ*cm(25℃)的超純水，完全符合光學(xué)玻璃的需求。設(shè)備還具有使用壽命長(zhǎng)、低耗能、運(yùn)行成本低、水利用率高、體積小、運(yùn)行的時(shí)間長(zhǎng)久等優(yōu)勢(shì)，采用的膜技術(shù)，有效的去除了水中的導(dǎo)電介質(zhì)，不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物等，在保證系統(tǒng)高回收率的同時(shí)，還有效提高系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)。

　由于EDI超純水系統(tǒng)的生產(chǎn)速度和效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)純水生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，已成為實(shí)驗(yàn)室純水制備的必備設(shè)備之一。不同的EDI超純水系統(tǒng)可以生產(chǎn)的純水超純水質(zhì)量也不同。

在取水時(shí)應(yīng)注意以下幾點(diǎn)：

　1、EDI超純水系統(tǒng)每7-10天沖洗一次，防止細(xì)菌滋生。

　　2、如果長(zhǎng)時(shí)間不適用，半導(dǎo)體純水設(shè)備定制，必須將純水機(jī)和水箱中的水全部排空。

　　3、EDI超純水系統(tǒng)取水時(shí)，應(yīng)先排出初始純水和超純水，待水質(zhì)穩(wěn)定后再取水。

　　4、不要將EDI超純水系統(tǒng)和儲(chǔ)水箱放置在陽(yáng)光直射的地方，以防細(xì)菌滋生。

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