利用電-光子轉(zhuǎn)換效應(yīng)制成的各種功能器件。光電子器件的設(shè)計(jì)原理是依據(jù)外場(chǎng)對(duì)導(dǎo)波光傳播方式的改變，它也有別于早期人們襲用的光電器件。光電子器件是光電子技術(shù)的關(guān)鍵和部件，是現(xiàn)代光電技術(shù)與微電子技術(shù)的前沿研究領(lǐng)域，是信息技術(shù)的重要組成部分。未來(lái)，隨著通信技術(shù)升級(jí)，目前分工與制造中心不斷向中國(guó)轉(zhuǎn)移，以及國(guó)家政策的大力扶持，行業(yè)整體技術(shù)創(chuàng)新能力將得到進(jìn)一步增強(qiáng)，產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)將不斷調(diào)整，有助于中國(guó)光電子器件制造行業(yè)的健康、持續(xù)發(fā)展。

在硅片的清洗過(guò)程中，清洗液的溫度是一個(gè)關(guān)鍵因素。合適的清洗溫度能夠加快油污的去除，得到較佳的清洗效果。當(dāng)硅片浸到清洗液中，硅片上的油污產(chǎn)生膨脹，油污內(nèi)部以及油污與硅片之間的作用力減弱，硅片酸洗設(shè)備，溫度越高，油污膨脹越大，這種作用力就越弱，徐州硅片，表面活性劑分子越容易將油污撬離硅片表面。同時(shí)，溫度的變化可導(dǎo)致膠束本身性質(zhì)和被增溶物在膠束中溶解情況發(fā)生變化。聚氧乙烯型表面活性劑的聚氧乙烯鏈（CH2CH2O）n在水中產(chǎn)生水合作用，與水分子中的氫形成氫鍵。溫度升高，氫鍵減弱，有的甚至斷裂，硅片腐蝕臺(tái)，水合作用減小，膠束易于形成，膠束的聚集數(shù)亦顯著地增加，對(duì)油脂等污染物的增溶量增大，這種情況有利于硅片的清洗。當(dāng)溫度升高到60℃左右時(shí)，聚氧乙烯鏈（CH2CH2O）n加速脫水并產(chǎn)生卷縮，使膠束起增溶的空間減小，增容能力下降，清洗液由透明變成乳濁液，這一溫度稱做溶液的濁點(diǎn)溫度。只有溫度接近表面活性劑溶液的濁點(diǎn)溫度時(shí)，增溶能力較強(qiáng)，因而清洗液的溫度定在60℃比較合理。

以前傳統(tǒng)的浸洗、刷洗、壓力沖洗、振動(dòng)清洗和蒸氣清洗，這些清洗方法都很容易破壞半導(dǎo)體表面，而且半導(dǎo)體制程中重復(fù)次數(shù)多的工序，清洗效果的好壞較大程度的影響芯片制程及積體電路特性等質(zhì)量問(wèn)題。在所有的清洗方式中超聲波清洗機(jī)對(duì)半導(dǎo)體的清洗效率好、效果好的一種，之所以超聲波清洗能夠達(dá)到如此的效果是與它的工作原理和清洗方法密切相關(guān)的。我們知道，半導(dǎo)體外形比較復(fù)雜，孔內(nèi)小，利用超聲波清洗機(jī)的高清潔度，得益于其聲波在介質(zhì)中傳播時(shí)產(chǎn)生的穿透性和空化沖擊疚，所以很容易將帶有復(fù)雜外形，內(nèi)腔和細(xì)空清洗干凈，在超聲波作用下只需兩三分鐘即可完成，其速度比傳統(tǒng)方法可提高幾倍，硅片清洗設(shè)備，甚至幾十倍，清潔度也能達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)，提高了對(duì)半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率，更突出顯示了用其他處理方法難以達(dá)到或不可取代的結(jié)果。

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