?EDI設備的優(yōu)點：

在半導體生產中，超純水主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設備的冷卻水、電鍍溶液的配制。集成電路產品的質量與產量密切相關。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會降低PN結的耐壓力，III族元素 (B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化。細菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會使p型硅片局部變?yōu)镹型硅片，導致器件性能下降。水中的顆粒，包括細菌，保定edi超純水設備，如果附著在硅片表面，會導致短路或性能惡化?？梢?，超純水在半導體行業(yè)的必要性。

EDI超純水系統出水電導率受哪些因素影響?

EDI超純水系統是電子、化工、電鍍等對水質要求較高的行業(yè)的一種制水設備。運行能耗低，edi純水設備，無酸堿廢水排放。雖然設備投資較高，但后期維護成本相對較低，無需酸堿再生。那么，edi超純水設備價格，EDI超純水系統出水電導率受哪些因素影響?

1、原水：原水水質發(fā)生變化，原水電導率高，產水自然受到影響。

2、預處理：機械過濾器、活性炭過濾器未定期及時反沖洗。

3、反滲透膜元件損壞或超過使用壽命。

4、保安過濾器污堵。

5、RO除鹽率下降和產水量下降10%或RO進水壓力上升10%時，有沒有及時進行清洗。

6、在不同的進水流量下，EDI超純水系統出水電導率會隨著電流的變化而變化。這是因為在電路中，淡室中的溶液相和樹脂相是并聯的。離子輸送主要是通過樹脂相進行的，在一定的淡水流量范圍內，流量對樹脂的影響較小，因此EDI膜堆的總電流變化不大，而水的電導率變化也很小，因此進水流量對水質的影響相對較小

7、工作電壓對出水電導率影響很大。如果工作電壓太小，在純水排出之前，edi超純水設備廠，不足以將離子從淡室中移除。電滲析工藝和樹脂電再生工藝相對較弱。此時，主要進行離子交換過程。隨著工作電壓的升高，水的離解度增大，樹脂再生效果好，淡水電導率降低。當工作電壓升高到一定程度時，離子交換過程與樹脂再生過程達到平衡，產水電導率進一步降低并趨于穩(wěn)定。然而，過高的工作電壓會導致水電離和離子反應擴散過度，降低產水的質量。因此，建議EDI在適當的電壓下運行。

EDI超純水系統中微生物的繁殖方法一般有以下原因：

　　1、在密封環(huán)境中，由于接觸不良而發(fā)生滲水，導致內部環(huán)境受到外部微生物和繁殖細菌的影響。

　　2、消耗品長期未更換，導致反滲透膜上微生物過度聚集，微生物增多，水質下降。

　　3、EDI超純水系統長期未使用，放置時微生物生長。

　　4、進水水質差，導致預處理系統耗材消耗快，微生物繁殖快。

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