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超純水設備出水符合芯片生產用水需求 在芯片生產中,幾乎每一道工序都需要超純水清洗,edi純水設備,工件與水直接接觸。一旦水質不達標或水中含有雜質,就會降低設備性能,降低產量。確保超純水的質量是我國自主研發(fā)芯片的重要基礎。傳統(tǒng)的超純水生產工藝采用陰離子樹脂交換設備。這種工藝的缺點是樹脂在使用一段時間后會頻繁地再生,增加成本。隨著膜分離技術的不斷成熟,萊特萊德采用反滲透工藝,或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水,出水電導率可達18.2MΩ,滿足芯片行業(yè)用水需求。隨著芯片制造工藝中對設計的需求更小,對純水水質的要求也越來越嚴格。萊特萊德芯片超純水設備能在一定程度上去除水中的二氧化硅、顆粒、細菌、有機物和微生物,從而達到行業(yè)用水要求。
電子超純水設備讓電子行業(yè)遇“芯荒” 心不慌芯片的制造過程很復雜,從設計、生產再到封裝和測試,edi超純水設備,每一步都非常重要。在制造環(huán)節(jié)中要解決的問題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。芯片制造的關鍵設備之一是電子電子超純水設備,edi超純水設備價格,可用于生產芯片清洗的超純水,而超純水的質量直接影響到芯片的質量。電子超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法,edi超純水設備廠家,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水系統(tǒng)設備的脫鹽部件為反滲透膜組件、EDI系統(tǒng)和拋光混床,超純水系統(tǒng)設備通常由預處理部分,反滲透主機部分,后處理部分共同組成?! ‰娮映兯O備具有抗污染能力強、節(jié)能環(huán)保、產水水質穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內無死水等優(yōu)勢
原因一:顆?;蚴悄z體堵塞
進水顆粒度>5um時會造成進水流道堵塞,引起模塊內部水分分部不均勻,從而導致模塊整體性能降低。
建議:在進入EDI模塊前段增設保安過濾器(<0.2um)。
原因二:有機物堵塞
當進水有機物污染TOC或TEA含量超過設計標準時,淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生有機物的堵塞。
建議:采用高PH值的對淡水室及濃水室循環(huán)清洗。
企業(yè): 天津開發(fā)區(qū)瑞爾環(huán)保科技有限公司
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