超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求

超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求　在芯片生產(chǎn)中，幾乎每一道工序都需要超純水清洗，工件與水直接接觸。一旦水質(zhì)不達(dá)標(biāo)或水中含有雜質(zhì)，就會降低設(shè)備性能，降低產(chǎn)量。確保超純水的質(zhì)量是我國自主研發(fā)芯片的重要基礎(chǔ)。傳統(tǒng)的超純水生產(chǎn)工藝采用陰離子樹脂交換設(shè)備。這種工藝的缺點是樹脂在使用一段時間后會頻繁地再生，天津半導(dǎo)體純水設(shè)備，增加成本。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟，萊特萊德采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產(chǎn)超純水，出水電導(dǎo)率可達(dá)18.2MΩ，滿足芯片行業(yè)用水需求。隨著芯片制造工藝中對設(shè)計的需求更小，對純水水質(zhì)的要求也越來越嚴(yán)格。萊特萊德芯片超純水設(shè)備能在一定程度上去除水中的二氧化硅、顆粒、細(xì)菌、有機物和微生物，從而達(dá)到行業(yè)用水要求。

EDI超純水系統(tǒng)取水注意事項

　由于EDI超純水系統(tǒng)的生產(chǎn)速度和效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)純水生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，半導(dǎo)體純水設(shè)備廠家，已成為實驗室純水制備的必備設(shè)備之一。不同的EDI超純水系統(tǒng)可以生產(chǎn)的純水超純水質(zhì)量也不同。

在取水時應(yīng)注意以下幾點：

　1、EDI超純水系統(tǒng)每7-10天沖洗一次，防止細(xì)菌滋生。

　　2、如果長時間不適用，必須將純水機和水箱中的水全部排空。

　　3、EDI超純水系統(tǒng)取水時，應(yīng)先排出初始純水和超純水，待水質(zhì)穩(wěn)定后再取水。

　　4、不要將EDI超純水系統(tǒng)和儲水箱放置在陽光直射的地方，以防細(xì)菌滋生。

導(dǎo)致超純水水質(zhì)惡化的原因有哪些？設(shè)計　　清洗過程中，半導(dǎo)體純水設(shè)備定制，平底水箱中的水不能排出。無法排凈的水是細(xì)菌生長的溫床。因此，半導(dǎo)體純水設(shè)備安裝，我們建議使用錐形底部的水箱以便排空所有水。水箱應(yīng)通過吹塑成型，以防止凹凸不平的表面為細(xì)菌的生長和繁殖提溫床。　　分配　　良好的分配泵應(yīng)連續(xù)工作10小時也不會造成溫度升高，避免為細(xì)菌生長提供條件。消毒　　即使是微生物的繁殖也會形成生物膜，降低水質(zhì)。因此，安裝能夠抑制細(xì)菌生長的消毒模塊(紫外線燈)非常重要。

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