常見鍍膜種類包含增透膜，福建光學(xué)鏡片鍍膜，寬帶增透膜，介質(zhì)高反膜，金屬反射膜，光學(xué)鏡片鍍膜供應(yīng)，金屬加強(qiáng)膜，金屬導(dǎo)電膜，透明導(dǎo)電膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透 防水膜，高反 防水膜等等。根據(jù)產(chǎn)品需求可進(jìn)行膜層選擇。常見選用的鍍膜材料一般是氟化鎂、二氧化硅、氧化鋯等其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜（折射率1.5），則透光度可達(dá)91%?？梢姽鈱W(xué)鍍膜的重要性。


等離子濺射包括一系列已知技術(shù)，包括先進(jìn)等離子濺射和磁控濺射。一般概念來源于等離子體的產(chǎn)生。等離子體中的離子隨后加速進(jìn)入源材料，光學(xué)鏡片鍍膜價(jià)位，撞擊出松散的高能源離子，然后濺射到目標(biāo)光學(xué)元件上。盡管每種等離子濺射都有其的特性、優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，但由于它們有共同的操作概念，因此這些技術(shù)被組合在一起。與本部分討論的其他鍍膜技術(shù)相比，這一組中的差異要小得多。


與蒸發(fā)沉積不同，原子層沉積 (ALD) 的源材料不需要從固體中蒸發(fā)，而是直接以氣體的形式提供。盡管使用了氣體，但在真空室中仍然經(jīng)常使用高溫。在 ALD 過程中，光學(xué)鏡片鍍膜價(jià)錢，前體以非重疊脈沖的形式傳遞，每個(gè)脈沖都具有自限性。該過程的化學(xué)設(shè)計(jì)使得只有一個(gè)單一的層可以依附每個(gè)脈沖，表面的幾何形狀不是限制因素。由此可對層厚度和設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)非凡的控制。


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