真空離子鍍膜

真空離子鍍膜是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎上發(fā)展起來的一種鍍膜新技術。通過在等離子體中進行整個氣相沉積過程，北滘塑料真空鍍膜，真空離子鍍膜工藝大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優(yōu)異性能的膜層，擴大了“薄膜”的應用領域。

優(yōu)點：附著力強，不易脫落；改善了膜層的覆蓋性；鍍層質量高；成膜速度快；密度高、晶粒小。

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某些真空鍍膜工藝無需面漆，如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時，其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強，因此對制品性能要求不高時，pvd塑料真空鍍膜，可不必涂裝面漆。塑料真空鍍膜

真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與原子發(fā)生碰撞，電離出大量的離子和電子，電子飛向基片。離子在電場的作用下加速轟擊靶材，塑料真空鍍膜加工廠，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

真空鍍膜的類型：陰極電弧。陰極電弧是一種PVD鍍膜方法，塑料真空鍍膜廠家，它使用電弧放電來蒸發(fā)氮化鈦、氮化鋯或銀等材料。蒸發(fā)的材料用它涂覆真空室中的部件。真空鍍膜的用途：醫(yī)學工具。通過PVD涂層應用的黑色氮化鈦正成為醫(yī)學工具的標準。該涂層可減少摩擦，為植入物提供生物相容性，具有抵抗性，并且可以作為對鎳敏感的人的化學屏障（通常可以在工具中找到）。


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