顯影檢驗良品率和重新工藝處理率隨掩膜水平而變??傮w上,游戲機(jī)外殼曝光顯影訂做,在掩膜次序中有較寬的特征圖形尺寸、較平的表面和較低的密度,所有這些會使掩膜良品率更高。首先,一部分晶圓會從上一步留下來問題而要停止工藝處理。這些晶圓在顯影檢驗時會被拒絕接受并進(jìn)行處理。檢驗的目的是區(qū)分那些有很低可能性通過終掩膜檢驗的晶圓;提供工藝性能和工藝控制數(shù)據(jù);及分揀出需要重做的晶圓。
我希望諸位也能好好地體會這句話。 曝光顯影因何而發(fā)生?每個人都不得不面對這些問題。 在面對這種問題時, 了解清楚曝光顯影到底是一種怎么樣的存在,游戲機(jī)外殼曝光顯影訂制,是解決一切問題的關(guān)鍵。 所謂曝光顯影,關(guān)鍵是曝光顯影需要如何寫。 裴斯泰洛齊在不經(jīng)意間這樣說過,今天應(yīng)做的事沒有做,明天再早也是耽誤了。我希望諸位也能好好地體會這句話。

曝光工藝是怎樣?綜上可推出3D玻璃曝光顯影技術(shù)是PET貼膜工藝的一種補(bǔ)充,目前應(yīng)用范圍局限于機(jī)型,三水游戲機(jī)外殼曝光顯影,后續(xù)技術(shù)的突破另當(dāng)別論。
將需要的圖形根據(jù)油墨的感光特性制成掩膜板(光罩/Mask),掩膜板與噴墨后的玻璃緊密接觸,通過曝光技術(shù),使圖形轉(zhuǎn)印到玻璃之上,完成原有印刷之功能。技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn):低溫平行光源,波長根據(jù)油墨特性進(jìn)行設(shè)備,目前光源是一大難點(diǎn)問題。
曝光顯影作為玻璃外觀修飾的重要工藝,目前技術(shù)工藝方面都已趨于穩(wěn)定,眾多設(shè)備廠家涉獵這方面的技術(shù)。
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