PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，金屬pvd真空鍍膜廠家，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。pvd鍍膜

真空鍍膜材料即是通過真空鍍膜技術(shù)鍍到基材上的成膜材料，以金屬和金屬氧化物為主。

鍍膜材料的性質(zhì)直接關(guān)系到真空鍍膜的質(zhì)量和性能，鍍膜材料不同，厚度不同，所得鍍膜層性能和色澤也不一樣。如鍍鋁層的連續(xù)性好于銀、銅鍍膜層，鍍層厚度達(dá)到0.9nm即可導(dǎo)電，達(dá)到30nm時(shí)，其性能就和固態(tài)鋁材相同。

因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。真空鍍膜是真空氣相沉積的簡(jiǎn)稱，是在真空條件下，五金pvd鍍膜廠，將金屬或非金屬作為源材料轉(zhuǎn)化成原子、離子或等離子體（氣相），五金pvd鍍膜公司，并在工件表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術(shù)。pvd鍍膜

真空鍍膜應(yīng)用，簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，均安pvd鍍膜，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。

真空鍍膜主要方法：濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。真空濺射薄膜的特點(diǎn)：可制備與靶材不同的新的物質(zhì)膜。如果濺射時(shí)通入反應(yīng)性氣體，使其與靶材發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，這樣就可以得到與靶材完全不同的新物質(zhì)膜。


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