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鍍膜設(shè)備是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的科學(xué)儀器,能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強(qiáng)等。
真空鍍膜機(jī)是目前使用的真空條件下的真空設(shè)備。一般由真空室、真空單元和電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)由“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫陷阱 多冷”組成。
鍍膜有許多優(yōu)點,如設(shè)備與工藝相對比較簡單,即可沉積非常純凈的膜層,環(huán)保納米鍍膜設(shè)備,又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等等,仍然是當(dāng)今非常重要的鍍膜技術(shù)。鍍膜系統(tǒng)一般由三個部分組成:真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料,需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物,同時需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達(dá)到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。
真空鍍膜設(shè)備選購因素
1、真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、增擴(kuò)泵、油增壓泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。
2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備,其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。
3、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。
真空鍍膜機(jī)的鍍膜性能
(1) 金屬外觀
(2) 均色
(3) 耐用表面,在各種基本空氣和陽光直射環(huán)境條件下保持良好外觀。
(4) 顏色深沉明亮
(5) 它是經(jīng)濟(jì)的,并且可以減少清潔和拋光電鍍黃銅或金所需的時間和成本。
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