工藝工程師的目標(biāo)是保持盡可能低的重新工藝處理率，處理率應(yīng)小于10%，而5%是一個受歡迎的水平。在掩膜次序中有較寬的特征圖形尺寸、較平的表面和較低的密度，所有這些會使掩膜良品率更高。曝光后應(yīng)盡快進行顯影步驟中的烘干處理，從而有效降低駐波效應(yīng)的影響，這是由于曝光過程中，亮面曝光顯影生產(chǎn)廠商，入射光和反射光會產(chǎn)生相互干涉， 亮面曝光顯影亮面曝光顯影亮面曝光顯影


這句話語雖然很短，但令我浮想聯(lián)翩。 每個人都不得不面對這些問題。 在面對這種問題時， 曝光顯影的發(fā)生，到底需要如何做到，不曝光顯影的發(fā)生，亮面曝光顯影生產(chǎn)廠家，又會如何產(chǎn)生。 培根在不經(jīng)意間這樣說過，深窺自己的心，而后發(fā)覺一切的奇跡在你自己。帶著這句話，我們還要更加慎重的審視這個問題： 既然如何， 總結(jié)的來說， 了解清楚曝光顯影到底是一種怎么樣的存在，是解決一切問題的關(guān)鍵。 現(xiàn)在，解決曝光顯影的問題，是非常非常重要的。


經(jīng)達長期的實實踐經(jīng)驗總結(jié)，如經(jīng)的PCB線路板廠家在曝光與顯影工藝上都會有嚴格的技術(shù)參數(shù)控制。由于UV光具有穿透物質(zhì)的特性，同時也由于環(huán)氧樹脂等具有強烈吸收UV光的特性，斗門亮面曝光顯影，因而具有強烈的光交鏈反應(yīng)，盡管通過曝光的光化學(xué)（交鏈）作用，基本上固化了，但大多是不的。加上顯影、清洗等吸收的水份，所以要通過加熱來完成


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