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晶圓-蘇州晶淼半導(dǎo)體-晶圓酸洗臺

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發(fā)布時(shí)間:2023-02-19 02:16  





1 半導(dǎo)體器件封裝概述電子產(chǎn)品是由半導(dǎo)體器件(集成電路和分立器件)、印刷線路板、導(dǎo)線、整機(jī)框架、外殼及顯示等部分組成,其中集成電路是用來處理和控制信號,晶圓酸洗臺,分立器件通常是信號放大,印刷線路板和導(dǎo)線是用來連接信號,整機(jī)框架外殼是起支撐和保護(hù)作用,顯示部分是作為與人溝通的接口。所以說半導(dǎo)體器件是電子產(chǎn)品的主要和重要組成部分,在電子工業(yè)有“工業(yè)之米"的美稱。


硅晶片的化學(xué)蝕刻是通過將晶片浸入蝕刻劑中來完成的,該蝕刻劑傳統(tǒng)上是稀釋劑或苛性堿溶液的酸性混合物。報(bào)道了苛性結(jié)晶學(xué)蝕刻的各種研究.然而,本文只關(guān)注基于酸的蝕刻的傳輸和動力學(xué)效應(yīng)。實(shí)際的反應(yīng)機(jī)理相當(dāng)復(fù)雜,晶圓酸洗設(shè)備,涉及許多基本反應(yīng)。氫和不同的氮氧化物會產(chǎn)生。已經(jīng)提出了許多不同條件下硅片溶解的速率方程。

化學(xué)清洗槽(也叫酸槽/化學(xué)槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸堿液體按一定比例配置,目的是為了去除雜質(zhì),去離子,去原子,后還有DI清洗。IPA是,就是工業(yè)酒精,是用來clean機(jī)臺或parts的,晶圓,是為了減少partical的。




我國在上世紀(jì)60年代自行研制和生產(chǎn)了首臺計(jì)算機(jī),其占用面積大約為100 m2以上,現(xiàn)在的便攜式計(jì)算機(jī)只有書包大小,而將來的計(jì)算機(jī)可能只與鋼筆一樣大小或更小。計(jì)算機(jī)體積的這種迅速縮小而其功能越來越強(qiáng)大就是半導(dǎo)體科技發(fā)展的一個(gè)很好的佐證,晶圓腐蝕,其功勞主要?dú)w結(jié)于:(1)半導(dǎo)體芯片集成度的大幅度提高和晶圓制造(Wafer fabrication)中光刻精度的提高,使得芯片的功能日益強(qiáng)大而尺寸反而更小;(2)半導(dǎo)體封裝技術(shù)的提高從而大大地提高了印刷線路板上集成電路的密集度,使得電子產(chǎn)品的體積大幅度地降低。


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