真空鍍膜的用途：注塑模具。許多公司都在努力解決應(yīng)該彈出的零件粘在注塑模具上的問題。這個(gè)問題是通過真空鍍膜的潤(rùn)滑性來(lái)解決的。零件可輕松從薄膜涂層模具中脫模，從而使生產(chǎn)過程快速進(jìn)行。換句話說(shuō)，它節(jié)省了時(shí)間和金錢。模具也更有可能通過真空涂層保持在規(guī)格范圍內(nèi)。制造工具：薄膜涂層是制造工具的理想選擇，因?yàn)樗鼈兛梢猿惺軜O其惡劣的條件，而不會(huì)使工具超出公差范圍。

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)，金屬真空鍍膜廠，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，金屬真空鍍膜加工，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。金屬真空鍍膜

PVD鍍膜膜層的厚度—PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，高明金屬真空鍍膜，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

真空鍍膜的種類：在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空蒸發(fā)鍍膜原理：它是將膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，通過蒸發(fā)源使其加熱蒸發(fā)。當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的線尺寸后，蒸發(fā)的粒子從蒸發(fā)源表面上逸出。


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