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在硅酸鹽體系電解液中加入偏釩酸銨,研究鎂合金表面所成微弧氧化膜的顏色及其變化,探討偏釩酸銨質(zhì)量濃度變化對膜層外觀質(zhì)量、膜厚、微觀形貌、物相組成及耐蝕性的影響.結(jié)果表明:NH4VO_3的加入使得微弧氧化膜呈現(xiàn)出一定的彩色,偏釩酸銨,膜層中MgV2O_5、Mg3V2O_8和AlVO_3等物相的生成是導(dǎo)致膜層呈現(xiàn)彩色的根本原因;NH4VO_3質(zhì)量濃度的增加,使得膜層的厚度不斷增大,耐蝕性出現(xiàn)波浪變化的形式,偏釩酸銨報價,但總體上呈不斷增大的趨勢,膜層的耐蝕性比鎂合金基體高出8倍.
樣品采用鹽酸溶解后,以電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)同時測定了偏釩酸銨中10種微量雜質(zhì)元素鋁,鐵,硅,磷,鉛,鉻,鉀,偏釩酸銨生產(chǎn)廠家,鈉,鈣的含量.由于樣品溶液中含有2.18 g/L釩和0.78 g/L銨根,故實驗重點考察了2.18 g/L釩標(biāo)準(zhǔn)溶液,0.78 g/L銨根標(biāo)準(zhǔn)溶液及兩者的混合標(biāo)準(zhǔn)溶液,以及10 mg/L各待測元素標(biāo)準(zhǔn)溶液,水和5%(V/V)鹽酸試劑空白的譜線重疊與連續(xù)背景疊加等光譜干擾以及基體效應(yīng)對待測元素測定的干擾影響情況.
以硫酸-偏釩酸銨-氫酸-抗壞血酸為底液,研究了錫的極譜吸附波,高純偏釩酸銨,并將其應(yīng)用于礦石中錫的測定。將所選實驗方法與使用硫酸-氯化銨-抗壞血酸和硫酸-偏釩酸銨---抗壞血酸為底液測定錫的方法進(jìn)行對比,結(jié)果表明,使用硫酸-偏釩酸銨溶液-氫酸-抗壞血酸溶液為底液的極譜法,其靈敏度高于使用硫酸-氯化銨-抗壞血酸和硫酸-偏釩酸銨---抗壞血酸為底液的極譜法。進(jìn)行了硫酸、偏釩酸銨溶液、氫酸及抗壞血酸溶液用量的優(yōu)化試驗,在3mL硫酸(1+2)、3mL 0.15mol/L偏釩酸銨溶液、1mL氫酸、1mL 100g/L抗壞血酸溶液體系下峰電流,靈敏度高。在選定的底液條件下能穩(wěn)定至少24h。
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