EDI超純水設(shè)備電阻率下降原因有哪些?

EDI超純水設(shè)備電阻率下降原因有哪些？

EDI超純水設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中電阻率下降的原因與進(jìn)水水質(zhì)、壓力、流量、電壓和進(jìn)水水質(zhì)的污染有關(guān)，EDI純水設(shè)備，包括以下幾點(diǎn)：

　　1、前置反滲透設(shè)備出水不合格

　　如果原水含鹽量較高，超純水設(shè)備，建議采用雙級(jí)反滲透設(shè)備設(shè)備進(jìn)行預(yù)脫鹽，其電導(dǎo)率應(yīng)保持在1～3μS/cm。若進(jìn)水CO2含量高，建議使用脫氣膜或脫氣塔去除CO2。如果pH值偏離中性太大，調(diào)整pH值，使EDI進(jìn)水pH值為7～8。

　　2、當(dāng)前的EDI控制系統(tǒng)存在問(wèn)題

　　工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷改善。然而，如果電流在增加到頂點(diǎn)后增加，由于水電離產(chǎn)生過(guò)量的H 和OH-離子，除了再生樹(shù)脂外，大量剩余離子作為載流離子導(dǎo)電。同時(shí)，由于大量載流離子在運(yùn)移過(guò)程中積累和堵塞，甚至反擴(kuò)散，電子超純水設(shè)備，導(dǎo)致產(chǎn)水水質(zhì)下降。

EDI超純水系統(tǒng)出水電導(dǎo)率受哪些因素影響？

EDI超純水系統(tǒng)出水電導(dǎo)率受哪些因素影響？在不同的進(jìn)水流量下，EDI超純水系統(tǒng)出水電導(dǎo)率會(huì)隨著電流的變化而變化。這是因?yàn)樵陔娐分?，淡室中的溶液相和?shù)脂相是并聯(lián)的。離子輸送主要是通過(guò)樹(shù)脂相進(jìn)行的，在一定的淡水流量范圍內(nèi)，流量對(duì)樹(shù)脂的影響較小，因此EDI膜堆的總電流變化不大，天津純水設(shè)備，而水的電導(dǎo)率變化也很小，因此進(jìn)水流量對(duì)水質(zhì)的影響相對(duì)較小。工作電壓對(duì)出水電導(dǎo)率影響很大。如果工作電壓太小，在純水排出之前，不足以將離子從淡室中移除。電滲析工藝和樹(shù)脂電再生工藝相對(duì)較弱。此時(shí)，主要進(jìn)行離子交換過(guò)程。隨著工作電壓的升高，水的離解度增大，樹(shù)脂再生效果好，淡水電導(dǎo)率降低。

EDI超純水設(shè)備應(yīng)用行業(yè)

1、電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

2、電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

3、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水。

4、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水。

5、液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液。

6、晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制。

7、集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

8、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。

10、顯像管、螢光粉生產(chǎn)。

11、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。

12、超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料。

13、實(shí)驗(yàn)室和中試車間。

14、汽車、家電表面拋光處理。

15、光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品。

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