PVD鍍膜的具體原理是什么？

答:物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，金屬真空鍍膜加工廠，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍（水電鍍）相比有何優(yōu)點(diǎn)？

答: PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，金屬真空鍍膜廠，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。

真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展趨勢

目前計(jì)算機(jī)和信息技術(shù)的基礎(chǔ)是超大規(guī)模集成電路;但下個(gè)世紀(jì)的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電子器件的下一代，有自己的理論、技術(shù)和材料?，F(xiàn)有微電子器件的主要材料是極純的硅、鍺和鎵等晶體半導(dǎo)體。納米電子器件有可能是以有機(jī)或有機(jī)/無機(jī)復(fù)合晶體薄膜為主要原料，長安金屬真空鍍膜，要求純度更高，結(jié)構(gòu)更完善。真空制備的清潔環(huán)境，有希望加工組裝出納米電子器件所要求的結(jié)構(gòu)。另據(jù)文獻(xiàn)報(bào)道，利用真空鍍膜技術(shù)可以制備出納米電子器件進(jìn)行組裝所要求的平整基底。

金屬真空鍍膜

真空鍍膜產(chǎn)品其膜面不僅亮度高，質(zhì)感細(xì)膩逼真，同時(shí)制作成本較低，有利于環(huán)境保護(hù)，較少受到基材材質(zhì)限制的優(yōu)點(diǎn)，金屬真空鍍膜加工，被越來越多的應(yīng)用在化妝品外殼的表面處理。

真空鍍膜就是以磁場束縛而延長電子的運(yùn)動(dòng)路徑，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿，因?yàn)橐话慊c真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用(EXB drift)使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。

金屬真空鍍膜

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