真空鍍膜機(jī)保養(yǎng)知識(shí)：

1. 關(guān)閉泵加熱系統(tǒng)，然后分離蒸鍍室（主要清潔灰塵，于蒸鍍殘?jiān)?/p>

2. 關(guān)閉電源或程序打入維護(hù)狀態(tài)

3. 清潔卷繞系統(tǒng)（幾個(gè)滾軸，方阻探頭，光密度測(cè)量器）

4. 清潔中罩室（面板四周）

5. 泵系統(tǒng)冷卻后打開(kāi)清潔（注意千萬(wàn)不能掉入雜物，檢查泵油使用時(shí)間與量計(jì)做出更換或添加處理）

6. 檢查重冷與電氣柜設(shè)備

這次實(shí)習(xí)給了我們了解了鍍膜技術(shù)的原理、技術(shù)，使我們了解了工廠的生產(chǎn)，感覺(jué)很新穎，收獲很多。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

鍍膜的方法及分類

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，真空鍍膜加工廠家，則要求壓力更低。

真空鍍膜加工

鍍膜的方法及分類：在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，望牛墩真空鍍膜加工，對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低。主要分為一下幾類：蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜：通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。


真空鍍膜主要方法：濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。真空濺射薄膜的特點(diǎn)：可制備與靶材不同的新的物質(zhì)膜。如果濺射時(shí)通入反應(yīng)性氣體，使其與靶材發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，這樣就可以得到與靶材完全不同的新物質(zhì)膜。


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