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真空電鍍工藝流程復(fù)雜,非常依賴人工操作。工件(靶材)需要噴涂、裝卸、再噴涂,并且也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量,所以人力成本很高。
pvd電鍍
真空蒸發(fā)鍍工藝流程工件>鍍前處理>裝件>烘烤>離子轟擊>預(yù)熔>蒸發(fā)沉積>冷卻>取件>后處理>成品真空濺射鍍工藝流程工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤、轟擊>預(yù)熔>濺射沉積>冷卻>取件>后處理>成品真空離子鍍工藝流程工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤>離子轟擊>離子沉積>冷卻>取件>后處理>成品
PVD是物理氣相沉積(PhysicalVaporDeition)的縮寫。 低電壓大電流的電弧放電技術(shù),在真空條件下通過氣體放電使目標(biāo)物質(zhì)蒸發(fā),使蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體電離。電場的加速作用是將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD電鍍的優(yōu)點(diǎn) 金屬外觀,色澤均勻,表面耐用,pvd電鍍多少錢,在各種基本空氣和陽光直射條件下具有性外觀?!ど钌?、明亮、經(jīng)濟(jì)的顏色可以減少清洗和拋光電鍍黃銅或黃金所需的時(shí)間和成本?!きh(huán)保,避免化學(xué),生物相容性好
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