真空鍍膜雖然適合的基材種類很多，但仍以塑料或其他高分子材料基材為主，原則上，絕大多數(shù)的聚合物材料都可用于真空鍍膜。因聚合物材料的本身的品種較多，獅山真空鍍膜加工，性能相差較大，對真空鍍膜的適應(yīng)性也可能不同。作為真空鍍膜的塑料基材，其基本的性能應(yīng)包括附著性能、真空放氣量和耐熱性等幾方面指標(biāo)。真空鍍膜加工

真空鍍膜技術(shù)是一個多學(xué)科綜合的產(chǎn)物，其工藝過程也必然涉及多方面的技術(shù)知識，生產(chǎn)上出現(xiàn)的技術(shù)問題也非單純的涂料技術(shù)可以解決的，需進行多學(xué)科的綜合分析。首先，塑料基材的質(zhì)量要合乎真空鍍膜的要求，基材成型加工不當(dāng)時，容易出現(xiàn)各種缺陷，直接或間接影響真空鍍膜質(zhì)量。

PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。真空鍍膜加工

真空鍍膜材料即是通過真空鍍膜技術(shù)鍍到基材上的成膜材料，以金屬和金屬氧化物為主。

鍍膜材料的性質(zhì)直接關(guān)系到真空鍍膜的質(zhì)量和性能，鍍膜材料不同，厚度不同，所得鍍膜層性能和色澤也不一樣。如鍍鋁層的連續(xù)性好于銀、銅鍍膜層，鍍層厚度達到0.9nm即可導(dǎo)電，達到30nm時，其性能就和固態(tài)鋁材相同。

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)，真空鍍膜加工廠家，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，真空鍍膜加工廠，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。真空鍍膜加工

PVD鍍膜膜層的厚度—PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，塑膠真空鍍膜加工，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

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