?PVD真空鍍膜金屬真空鍍膜

PVD真空鍍膜過程的均勻性

PVD真空鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

薄膜均勻性的概念：

厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒有任何障礙。

真空鍍膜金屬真空鍍膜

什么是真空鍍膜技術(shù)？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

、鍍膜的方法及分類

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，福田金屬真空鍍膜，對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，金屬真空鍍膜加工廠，則要求壓力更低。

通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用，使塑料表面金屬化，將有機(jī)材料和無(wú)機(jī)材料結(jié)合起來(lái)，金屬真空鍍膜加工廠家，大大提高了它的物理、化學(xué)性能。其優(yōu)點(diǎn)主要表現(xiàn)在

一、改善美觀，表面光滑，金屬光澤彩色化，裝飾性大大提高；

二、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，金屬真空鍍膜廠家，通過真空鍍膜，硬度及耐磨性大大增加；

三、提高耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外線照射所致，而鍍鋁后，鋁對(duì)紫外線反射強(qiáng)，因此，耐候性大大提高；

四、減少吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，針i孔愈少，吸水率降低，制品不易變形，提高耐熱性；

五、使塑料表面有導(dǎo)電性；

六、容易清洗，不吸塵。

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