膜層結(jié)合力強(qiáng)，在真空電鍍加工過程中，有部分電子撞擊到基材表面，表面原子，并且產(chǎn)生清潔的作用，環(huán)保真空鍍膜技術(shù)哪家好，而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發(fā)所獲得的能量高出1到2個(gè)數(shù)量級(jí)，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時(shí)，環(huán)保真空鍍膜價(jià)格，有更多的能量可以傳遞到基材上，產(chǎn)生更多的熱能，使被電子的原子加速運(yùn)動(dòng)，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著陸續(xù)沉積成膜，加強(qiáng)了膜層與基材的結(jié)合力。

帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級(jí)階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低，成本較高。有效的解決方法是開發(fā)研制高速，穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。

大功率電子的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應(yīng)加熱。它的設(shè)備較簡(jiǎn)單，但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要，就必須使用加熱速度快，熔化溫度高的熱源。

真空鍍中對(duì)底涂層的要求：

①對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，環(huán)保真空鍍膜，不起反應(yīng)，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。

③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r(shí)間短。

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