真空鍍膜的優(yōu)缺點

1、優(yōu)點

表面有較好的金屬質感且細膩。

顏色較水電鍍可解決七彩色的問題如魔幻藍、閃銀燈；水電鍍顏色較單調，一般只有亮銀、亞銀等少數(shù)幾種。

基材材質選用范圍廣，如PC、ABS、PMMA，（水鍍只能選擇ABS、ABS PC）。

通過鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產品中發(fā)出來。

不污染環(huán)境。

2、缺點

蒸鍍靶材受熔點限制，太高熔點的不易采用。

真空蒸鍍不過UV油，其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，真空pvd鍍膜廠，均需后續(xù)進行特殊的噴涂處理。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，真空pvd鍍膜價格，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld

為例，真空pvd鍍膜加工，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。對于不同的濺射材料和基片，zui佳參數(shù)需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設備的好壞主要在于能否精i確控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術，已經(jīng)

比較好的解決了如上所屬的問題，南海真空pvd鍍膜，但是基本用于實驗研究，工業(yè)生產上比較常用的一體式鍍膜機主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

基體外表狀況對掩蓋才能的影響

　　基體資料的外表狀況是影響掩蓋才能的主要要素之一。實習標明，金屬在不一樣基體資料上電堆積時，同一鍍液的掩蓋才能不一樣也很大。如用鉻酸溶液鍍鉻，金屬鉻在銅、鎳、黃銅和鋼上堆積時，鍍液的掩蓋才能順次遞減。這是因為當金屬離子在不一樣的基體資料上復原堆積時，其過電位的數(shù)值有很大的不一樣。過電位較小的分出電位較正，即便在電流密度較低的部位也能到達其分出電位的數(shù)值，因而其掩蓋才能較好。

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