真空鍍膜加工的表面硬度高 化學鍍鎳層的硬度一般在HV300-600，真空pvd鍍膜廠，高的甚至可達到HV700以上，而電鍍鎳的硬度僅為 HV160-180，顯然化學鍍鎳層的硬度要遠大于電鍍層的硬度.而其化學鍍鎳層經(jīng)過一定的熱處理后，其硬度還可以提高，可達HV900以上。

自潤滑性好 經(jīng)合金鍍液處理過的金屬表面是一種非晶態(tài)，即處于基本平面狀態(tài)，真空pvd鍍膜加工，有自潤滑性，因此摩擦 系數(shù)小，非粘著性好。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，南莊真空pvd鍍膜，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學氣相沉積（CVD）技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。

3.晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題，具體見下。

主要分類有兩個大種類：

蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，真空pvd鍍膜公司，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

一、對于蒸發(fā)鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。

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