電解著色膜作太陽能的吸收板。為了更加有效地利用太陽能，要求太陽能吸收膜的材料在太陽光譜域有較高的吸收率，而在熱譜域的率要盡可能地小。例如 ：在磷酸溶液制得的氧化鋁膜的納米級微孔中電沉積Ni，制成了對太陽能具有選擇性吸收的功能性膜。通過測定反射率，發(fā)現(xiàn)這種膜具有較理想的選擇性吸收特性。實驗結(jié)果表明，向膜孔中分別電沉積Fe、Ni 等金屬均能使膜的耐熱性比由其他材料制備的選擇性吸收膜明顯的增強。但其耐蝕性還不夠理想，可望通過封孔或在膜表面涂敷耐蝕性涂層以及改變周邊環(huán)境條件等方法加以改進。

①硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，消防標志牌廠家，硬度高，耐磨性好。所以，用于防護，裝飾及純裝飾加工時，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。②電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當溫度為22～30℃時，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當差；當溫度大于30℃時，膜就變得疏松且不均勻，有時甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價值；當溫度在10～20℃之間時，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時必須嚴格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進行硬質(zhì)氧化。③電流密度：在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。④氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下，當電流密度恒定時，膜的生長速度與氧化時間成正比；但當膜生長到一定厚度時，由于膜電阻升高，影響導電能力，而且由于溫升，膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到不再增加。

（1）近年來利用電解著色沉積磁性金屬或磁性合金如鐵、鈷、鎳及合金，這種電解著色膜具有磁性。能夠用于數(shù)據(jù)儲存或其他磁記錄。在微電子工業(yè)得到廣泛應用。（2）電解沉積超硬質(zhì)和自潤滑的電解著色膜。由于鋁本身相當軟，而陽極氧化提供了一個表面硬化的方法。低剪應力的金屬填充在陽極氧化鋁的微孔中，就是一個提供自潤滑性能的有效方法。在機械工程上有十分重要的使用價值。

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