前面所描述的印法，圖文是以不同色彩的油墨來表現(xiàn)的，但在許多特殊的場合，諸如通訊設(shè)備的面板、尺板、度盤，或在惡劣環(huán)境下所適應(yīng)的有機(jī)玻璃的圖文表示等，網(wǎng)印油墨的墨層有可能會產(chǎn)生一些弊端，采用色彩蝕刻機(jī)蝕刻的方法，會有所改善。

所謂彩色蝕刻，不銹鋼電解蝕刻機(jī)深腐刻圖文字，是指將醇溶性顏料，按不同的比列溶解于有機(jī)玻璃有侵蝕作用的中，使有機(jī)玻璃上的圖文表面溶解，待揮發(fā)后，不銹鋼電解蝕刻機(jī)加盟，顏色已與有機(jī)玻璃的圖文表面層溶于一體，具有結(jié)合牢度強(qiáng)、耐磨性、耐候性好的特點(diǎn)。

工藝流程 有機(jī)玻璃清潔處理----噴涂抗蝕刻感光膠---曝光---顯影著色---彩色蝕刻---去膠膜----成型----去防所紙----拋光---成品

蝕刻標(biāo)牌是指金屬標(biāo)牌的圖文與金屬表面不在同一個(gè)表面，并以蝕刻的方式而制得。它可以是保留圖文在原基材的平面，將圖文以外的區(qū)域通過蝕刻機(jī)蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻；也可以保留基材表面，使圖文區(qū)域蝕刻下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標(biāo)牌設(shè)備具有圖文的性，常用與機(jī)械設(shè)備標(biāo)牌和一些實(shí)用環(huán)境惡劣而需要作耐久性標(biāo)識的場合。

蝕刻標(biāo)牌設(shè)備是傳統(tǒng)性的標(biāo)牌，在以往習(xí)慣稱為腐蝕標(biāo)牌，實(shí)際上這是很不正確的稱謂。腐蝕一詞指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結(jié)果；而蝕刻則是一種有意識、有選擇性的、為達(dá)到預(yù)期目的的而實(shí)施的一種刻意行為。為此腐蝕標(biāo)牌機(jī)從嚴(yán)格的意思上講，宜改成為蝕刻標(biāo)牌機(jī)更為妥切。

標(biāo)牌蝕刻的工藝過程，無論是抗蝕刻膜，或者是蝕刻液與蝕刻機(jī)的選擇，在近年來都有了較大的變化。但所有這些變化，不銹鋼電解蝕刻機(jī)供應(yīng)商，應(yīng)該承認(rèn)，它是從傳統(tǒng)蝕刻標(biāo)牌的基礎(chǔ)上逐步發(fā)展而來。從手動蝕刻到槽子蝕刻（甩刻）到金屬標(biāo)牌蝕刻機(jī)自動化蝕刻。從變化的起步到逐步的應(yīng)用，也足足經(jīng)歷了二十多年，直到目前為止，由于種種原因，還不能完全取消傳功工藝。

蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的，化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。

光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，衡陽不銹鋼電解蝕刻機(jī)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個(gè)圖形(工藝);在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)""到硅片上的過程。

光柵刻畫:光學(xué)中光柵通常的作用是色散。光柵刻劃是制作光柵的方法之一。

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