金屬在蝕刻液中蝕刻的過程，首先是金屬零件表面發(fā)生晶粒溶解的作用；其次在晶界上也發(fā)生溶解作用，一般來講晶界與晶粒是以不同溶解速度發(fā)生溶解作用的。在多數(shù)金屬和合金的多晶體結(jié)構(gòu)中，各個晶體幾乎都能采取原子晶格的任何取向。而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及雜質(zhì)都會和周圍的母體金屬形成微觀原電池。

       對金屬的蝕刻液來講，一方面這些原電池的存在，蝕刻加工價格，使金屬表面存在著電位差，電位正的地方得到暫時的保護(hù)，蝕刻加工廠，電位負(fù)的地方被優(yōu)先蝕刻。另一方面在零件表面具有變化著的原子間距，而且原子間距較寬的地方溶解迅速，蝕刻加工公司，一直到顯示出不平整的表面為止。然后溶解作用以幾乎恒定的速度切削緊密堆積的原子層，表面的幾何形狀也隨著晶粒的溶解而不斷變化。晶界上的蝕刻也將進(jìn)一步影響零件表面。

透明導(dǎo)電膜在高透光下同時具有導(dǎo)電性，是光電領(lǐng)域中不可或缺的重要工業(yè)基礎(chǔ)材料。隨著光電子器件逐漸向大尺寸、輕薄、柔性、低成本方向發(fā)展，對的柔性及可拉伸透明導(dǎo)電膜的需求增長迅速。當(dāng)前廣泛使用的透明導(dǎo)電材料主要為ITO膜或玻璃，但因方阻較高、脆性結(jié)構(gòu)限制了其在柔性光電器件上的使用；而新發(fā)展的基于導(dǎo)電聚合物、碳材料和金屬納米材料的柔性透明導(dǎo)電膜，普遍存在導(dǎo)電性和透過率相互制約的問題，在85%以上的透過率下方阻通常在數(shù)十歐每方塊以上?；阢~箔黃光制程蝕刻的金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電膜具有高導(dǎo)高透的優(yōu)點受到了行業(yè)廣泛關(guān)注，但工藝復(fù)雜，酸蝕刻工藝與銅離子造成的污染及其高成本也不容忽視

    金屬蝕刻表層的光滑度對蝕刻工藝的危害較為大，表層不光滑時，不需蝕刻工藝的一部分刷涂的耐腐蝕膠難以消除整潔，必須蝕刻工藝的位置因為表層不光滑，蝕刻工藝出去的刻線也不光滑高低不平，臨滄蝕刻加工，因此在蝕刻工藝以前，金屬表層 要開展打磨拋光，能夠依據(jù)狀況及對商品的規(guī)定制訂出打磨拋光的計劃方案及采用方式，實際可參照第二章打磨拋光一部分。

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