考慮薄膜反射鏡具有質(zhì)量輕、柔韌性好、可折疊等優(yōu)點，研究了由靜電拉伸法制備薄膜反射鏡的新技術(shù)。介紹了薄膜反射鏡的靜電成形機理，計算了單電極模式下薄膜所受力場，設(shè)計了單電極式薄膜反射鏡的控制實驗。給出了控制成型所需的主要參數(shù)，廣州橢球反射鏡，設(shè)計了薄膜反射鏡的夾持結(jié)構(gòu)和控制電路，并利用刀口儀測量了形成的反射面的焦距。實驗結(jié)果顯示，未通電時薄膜反射鏡面形的PV值達到11.14λ，廣州橢球反射鏡，RMS值為1.86λ，在10000V的高壓下可以形成焦距約為2.1m的反射鏡面。通過Zernike擬合驗證了數(shù)據(jù)的可靠性，廣州橢球反射鏡，結(jié)果表明，通過改善夾持結(jié)構(gòu)精度和選取性能優(yōu)良的薄膜材料，反射鏡面形精度可進一步提高?？蛇_可見光頻譜的紫外區(qū)和紅外區(qū)。廣州橢球反射鏡

反射鏡膜層沉積的基底大多是電介質(zhì)材料，這些基底控制反射鏡的熱膨脹和透射特性。某些材料（PYREX硼硅酸鹽玻璃或者熔融石英）的熱膨脹系數(shù)低于其他材料（N-BK7光學玻璃），但也必須考慮材料的成本和拋光的容易程度。如果不需要光從基底透過，則通常會研磨基底背面以防止意外透射。對于透射鏡而言，具有均勻折射率的基底材料十分重要，例如，熔融石英。在沉積光學膜層之前，必須對基底表面進行研磨并且拋光成合適的形狀（平面或者曲面）。特定的應(yīng)用需要特定的反射鏡參數(shù)，反射鏡的表面質(zhì)量和平整度決定了其保真度。表面平整度通常以波長為單位，例如，在鏡子的整個可用面積上，平整度為λ/10。當保持波前至關(guān)重要時，應(yīng)該選擇平整度為λ/10—λ/20的反射鏡，而要求較低的應(yīng)用可以選擇平整度為λ/2—λ/5的反射鏡，相關(guān)的成本也隨之降低。背投反射鏡生產(chǎn)廠家一般的平面鏡做反射鏡的作用是改變光線的傳播方向。

碳化硅反射鏡的燒結(jié)工藝：SiC陶瓷材料的制備工藝方式主要有：熱壓燒結(jié)工藝、反應(yīng)燒結(jié)工藝、常壓燒結(jié)工藝和化學氣相沉積工藝（CVD）。其中熱壓燒結(jié)工藝由于工藝過程的限制，不適合制備形狀復(fù)雜的反射鏡鏡坯。常壓燒結(jié)工藝燒結(jié)過程鏡坯的收縮率達到10%~15%，這種工藝對于制備精密尺寸的近凈尺寸成型不利。CVD技術(shù)制備SiC質(zhì)反射鏡，是將含有硅源（SiCl４）和碳源（CXHY）的氣體共同導(dǎo)入反應(yīng)爐，合成SiC后沉積在基板上。采用該工藝制備的鏡體質(zhì)量較好，但成本也較高，只有在特殊的情況下應(yīng)用該技術(shù)。反應(yīng)燒結(jié)工藝可以制備大尺寸、形狀復(fù)雜的SiC反射鏡鏡坯，并且反應(yīng)燒結(jié)的制備溫度相對較低、燒結(jié)時間周期短、鏡坯制造成本低、燒結(jié)完成的結(jié)構(gòu)致密，機械綜合性能、熱特性較優(yōu)，符合超大口徑反射鏡的應(yīng)用要求。

隨著世界各國航空航天事業(yè)方面的飛速發(fā)展，SiC基底反射鏡的應(yīng)用已經(jīng)越來越廣。目前，我國現(xiàn)有的表面改性SiC基底反射鏡的加工技術(shù)受限于加工經(jīng)驗、加工設(shè)備等各方面的因素，且尚處于起步階段，與國際前列水平仍存在明顯差距，但各研究機構(gòu)通過多年的努力已取得十分明顯的進步。為使我國在國際競爭中處于前列位置，根據(jù)國內(nèi)現(xiàn)有研究條件，只有進一步改進并完善現(xiàn)有加工工藝，以計算機控制光學成型技術(shù)為基礎(chǔ)，根據(jù)不同加工需求配合多種不同種類的拋光技術(shù)，即以組合式拋光技術(shù)進行光學加工，以實現(xiàn)目標精度要求，更好地適應(yīng)我國航空航天事業(yè)發(fā)展的需求。反射鏡所接觸的光是一種電磁波。

怎么理解凸面反射鏡對實物只能成正立縮小的虛像？來自物體的光經(jīng)凸面鏡反射進入人眼，人眼往往感覺光是由直線傳播而來，順著反射光線看過去就是如圖的虛像。虛像是反射光線的反向沿長線匯聚而成的。凸面鏡是發(fā)散鏡，平行光束經(jīng)它反射后成發(fā)散光束，反射光線的反向延長線交于一點，此點為虛焦點。汽車駕駛室兩旁安置的觀察鏡為凸面鏡，遠處的物體在虛焦點前附近形成正立縮小的虛像。凸面鏡的特點決定凸面鏡的觀察視野被加寬，理論上圖面所覆蓋的區(qū)域就是視界。反射鏡根據(jù)膜層分類又分別有介質(zhì)反射鏡和金屬膜層反射鏡。貴州平凹球面反射鏡

反射鏡表面不一定是平的，存在曲面反射的反射鏡。廣州橢球反射鏡

碳化硅反射鏡制備工藝：1、反應(yīng)燒結(jié)法。反應(yīng)燒結(jié)是一種較為常見的反射鏡制備工藝，這種工藝采用具有反應(yīng)活性的液態(tài)硅浸滲含碳的反射鏡預(yù)制體，硅與碳反應(yīng)生成的新碳化硅原位地結(jié)合預(yù)制體中原有的碳化硅顆粒，并填充預(yù)制體中剩余的孔隙，然后得到近乎完全致密的反射鏡毛坯。2、化學氣相沉積法。化學氣相沉積法是在溫度為1275℃～1350℃的反應(yīng)容器內(nèi)，通入一種氣體或幾種氣體的混合氣，在石墨或其它物質(zhì)的基片上得到碳化硅的沉積層。3、熱壓(或熱等靜壓)法。熱壓(或熱等靜壓)燒結(jié)的主要工藝步驟：把微米級的碳化硅粉和助燒劑以及阻止晶粒過分長大的添加劑混合后預(yù)壓成預(yù)制體，然后將這種預(yù)制體用合適的封裝材料封裝后放入壓力腔中，在合適的溫度-壓力-時間制度下進行燒結(jié)。廣州橢球反射鏡

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