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如何選擇光刻膠
光刻膠必須滿足幾個硬性指標要求:高靈敏度,高對比度,好的蝕刻阻抗性,高分辨力,易于處理,高純度,長壽命周期,低溶解度,低成本和比較高的玻璃化轉(zhuǎn)換溫度(Tg)。主要的兩個性能是靈敏度和分辨力。大多數(shù)光刻膠是無定向的聚合體。當溫度高于玻璃化轉(zhuǎn)換溫度,聚合體中相當多的鏈條片以分子運動形式出現(xiàn),因此呈粘性流動。當溫度低于玻璃化轉(zhuǎn)換溫度,鏈條片段的分子運動停止,聚合體表現(xiàn)為玻璃而不是橡膠。當Tg低于室溫,膠視為橡膠。當Tg高于室溫,膠被視為玻璃。由于溫度高于Tg時,聚合體流動容易,于是加熱膠至它的玻璃轉(zhuǎn)化溫度一段時間進行退火處理,可達到更穩(wěn)定的能量狀態(tài)。在橡膠狀態(tài),溶劑可以容易從聚合體中去除,如軟烘培膠工藝。但此時膠的工作環(huán)境需要格外關(guān)注,NR7 6000P光刻膠公司,當軟化膠溫度大于Tg時,它容易除去溶劑,但也容易混入各種雜質(zhì)。一般來說,結(jié)晶的聚合體不會用來作為膠,因為結(jié)晶片的構(gòu)成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。
以上內(nèi)容由賽米萊德為您提供,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助!
光刻膠分類
1、負性光刻膠
主要有聚酸系(聚酮膠)和環(huán)化橡膠系兩大類,前者以柯達公司的KPR為代表,后者以O(shè)MR系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以重氮醒為感光化臺物,以酚醛樹脂為基本材料。的有AZ-1350系列。正膠的主要優(yōu)點是分辨率高,缺點是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。
3、負性電子束光刻膠
為含有環(huán)氧基、乙烯基或環(huán)硫化物的聚合物。 的是COP膠,典型特性:靈敏度0.3~0.4μC/cm^2 (加速電壓10KV時)、分辨率1.0um、 對比度0.95。限制分辨率
的主要因素是光刻膠在顯影時的溶脹。
4、正性電子束光刻膠
主要為甲酯、烯砜和重氮類這三種聚合物。的是PMMA膠,典型特性:靈敏度40~ 80μC/cm^2 (加速電壓20KV時)、分辨率0.1μm、 對比度2~3。
PMMA膠的主要優(yōu)點是分辨率高。主要缺點是靈敏度低,此外在高溫下易流動,耐干法刻蝕性差。
光刻膠定義
以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。
光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因為光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是一種形象的說法,因為光刻膠從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。
光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時,光刻膠材料本身的特性會發(fā)生改變,經(jīng)過顯影液顯影后,NR7 6000P光刻膠廠家,曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面,這樣就將設(shè)計的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到了光刻膠上,而后續(xù)的刻蝕、沉積等工藝,就可進一步將此圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的襯底上,后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
光刻膠按其形成圖形的極性可以分為:正性光刻膠和負性光刻膠。正膠指的是聚合物的長鏈分子因光照而截斷成短鏈分子;負膠指的是聚合物的短鏈分子因光照而交鏈長鏈分子。 短鏈分子聚合物可以被顯影液溶解掉,因此正膠的曝光部分被去掉,而負膠的曝光部分被保留。
光刻膠一般由4部分組成:樹脂型聚合物(resin/polymer),溶劑(solvent),光活性物質(zhì)(photoactive compound,NR7 6000P光刻膠,PAC),添加劑(Additive)。 其中,NR7 6000P光刻膠哪里有,樹脂型聚合物是光刻膠的主體,它使光刻膠具有耐刻蝕性能;溶劑使光刻膠處于液體狀態(tài),便于涂覆;光活性物質(zhì)是控制光刻膠對某一特定波長光/電子束/離子束/X射線等感光,并發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng);添加劑是用以改變光刻膠的某些特性,如控制膠的光吸收率/溶解度等。
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